RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      KCI등재

      유기트랜지스터 내부 편재화 준위간 커플링에 의한 계면 전하이동의 비선형적 가속화 현상의 이해 = Understanding Interfacial Charge Transfer Nonlinearly Boosted by Localized States Coupling in Organic Transistors

      한글로보기

      https://www.riss.kr/link?id=A107991486

      • 0

        상세조회
      • 0

        다운로드
      서지정보 열기
      • 내보내기
      • 내책장담기
      • 공유하기
      • 오류접수

      부가정보

      국문 초록 (Abstract)

      유기반도체와 게이트 절연체 간 계면전하이동을 이해하는 것은 고성능 유기메모리, 고안정성 유기전계효과 트랜지스터 (이하 유기트랜지스터) 개발에 기여할 수 있다. 본 연구에서는 계면 ...

      유기반도체와 게이트 절연체 간 계면전하이동을 이해하는 것은 고성능 유기메모리, 고안정성 유기전계효과 트랜지스터 (이하 유기트랜지스터) 개발에 기여할 수 있다. 본 연구에서는 계면 간 전하 이동의 특이거동, 즉 홀전하가 유기반도체에서 고분자절연체로 이동되어 편재화되는 것이 편재화 준위 간의 커플링에 의해 비선형적으로 가속화될 수 있음을 최초로 밝혀내었다. 이의 규명을 위해 rubrene 단결정과 Mylar 절연체를 기반으로 한 유기트랜지스터를 vacuum lamination 공정으로 제작하여 반도체-절연체 계면의 반복적인 전사와 박리에도 안정적인 소자를 개발하였다. Rubrene 단결정과 Mylar film의 표면을 각각 광유도 산소 확산법과 UV-오존 처리를 통해 결함을 생성시켰다. 그 결과, 계면 간 전하이동과 이에 의한 바이어스 스트레스 효과가 rubrene과 Mylar가 가진 편재화 준위 간 커플링에 의해 비선형적으로 급격하게 가속화되었음을 관측하였다. 특히, rubrene 단결정에 있는 적은 밀도의 편재화 준위가 계면 간 전하이동을 촉진하는데 가교역할을 함을 밝혀내었다

      더보기

      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      Understanding charge transfer across the interface between organic semiconductor and gate insulator gives insight into the development of high-performance organic memory as well as highly stable organic field-effect transistors (OFETs). In this work, ...

      Understanding charge transfer across the interface between organic semiconductor and gate insulator gives insight into the development of high-performance organic memory as well as highly stable organic field-effect transistors (OFETs). In this work, we firstly unveil a novel interfacial charge transfer mechanism, in which hole transfer from organic semiconductor to polymer insulator was nonlinearly boosted by localized states coupling. For this, OFETs based on rubrene single crystal semiconductor and Mylar gate insulator were fabricated via vacuum lamination, which allows stable repetition of lamination and delamination between semiconductor and gate insulator. The surfaces of rubrene single crystal and Mylar film were selectively degraded by photo-induced oxygen diffusion and UV-ozone treatment, respectively. Consequently, we found that the interfacial charge transfer and resultant bias-stress effect were nonlinearly boosted by coupling between localized states in rubrene and Mylar. In particular, the small number of localized states in rubrene single crystal provided fluent pathway for interfacial charge transport.

      더보기

      참고문헌 (Reference)

      1 H. H. Choi, 7 : 1901824-, 2020

      2 S. G. J. Mathijssen, 19 : 2785-, 2007

      3 L. M. Nhari, 193 : 109465-, 2021

      4 J. Liu, 29 : 1808453-, 2019

      5 H. H. Choi, 28 : 1707105-, 2018

      6 C. Wang, 10 : 2000955-, 2020

      7 H. Sirringhaus, 21 : 3859-, 2009

      8 J. S. Park, 520 : 1679-, 2012

      9 S. Park, 30 : 1904590-, 2020

      10 Y. Chen, 24 : 2679-, 2012

      1 H. H. Choi, 7 : 1901824-, 2020

      2 S. G. J. Mathijssen, 19 : 2785-, 2007

      3 L. M. Nhari, 193 : 109465-, 2021

      4 J. Liu, 29 : 1808453-, 2019

      5 H. H. Choi, 28 : 1707105-, 2018

      6 C. Wang, 10 : 2000955-, 2020

      7 H. Sirringhaus, 21 : 3859-, 2009

      8 J. S. Park, 520 : 1679-, 2012

      9 S. Park, 30 : 1904590-, 2020

      10 Y. Chen, 24 : 2679-, 2012

      11 H. H. Choi, 22 : 4833-, 2012

      12 S. G. Lee, 20 : 162-, 2019

      13 R. A. Street, 68 : 085316-, 2003

      14 A. Salleo, 70 : 235324-, 2004

      15 A. Y. B. Meneau, 26 : 2326-, 2016

      16 B. Kang, 2 : 1500380-, 2016

      17 T. Miyadera, 93 : 033304-, 2008

      18 S. G. Mathijssen, 22 : 5105-, 2010

      19 H. H. Choi, 9 : 34153-, 2017

      20 V. Podzorov, 95 : 016602-, 2005

      21 V. Y. Butko, 83 : 4773-, 2003

      22 H. T. Yi, 23 : 5807-, 2011

      23 R. A. Laudise, 187 : 449-, 1998

      24 A. R. Ullah, 2008

      25 Y. Lee, 14 : 1704024-, 2018

      26 Y. Chen, 23 : 5370-, 2011

      27 H. Najafov, 23 : 981-, 2011

      28 J. Lee, 1 : 2174-, 2019

      29 Z. Liu, 1-, 2009

      30 P. Irkhin, 5 : 15323-, 2015

      31 H. Najafov, 96 : 2010

      32 H. Najafov, 96 : 056604-, 2006

      33 H. Najafov, 77 : 2008

      34 H. H. Choi, 17 : 2-, 2018

      35 C. Ton-That, 278 : 433-, 1999

      36 C. Ton-That, 16 : 5054-, 2000

      37 V. Podzorov, 93 : 086602-, 2004

      38 F. Gholamrezaie, 8 : 241-, 2012

      39 H. H. Choi, 23 : 690-, 2013

      40 Y. H. Lee, 3 : 724-, 2017

      더보기

      동일학술지(권/호) 다른 논문

      동일학술지 더보기

      더보기

      분석정보

      View

      상세정보조회

      0

      Usage

      원문다운로드

      0

      대출신청

      0

      복사신청

      0

      EDDS신청

      0

      동일 주제 내 활용도 TOP

      더보기

      주제

      연도별 연구동향

      연도별 활용동향

      연관논문

      연구자 네트워크맵

      공동연구자 (7)

      유사연구자 (20) 활용도상위20명

      인용정보 인용지수 설명보기

      학술지 이력

      학술지 이력
      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      2023 평가예정 재인증평가 신청대상 (재인증)
      2020-01-01 평가 등재학술지 선정 (재인증) KCI등재
      2018-01-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
      2013-04-01 평가 등재후보 탈락 (기타)
      2011-01-01 평가 등재후보 1차 FAIL (등재후보2차) KCI등재후보
      2010-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2009-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) KCI등재후보
      2008-01-01 평가 등재후보 1차 FAIL (등재후보2차) KCI등재후보
      2007-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2005-01-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
      더보기

      이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

      나만을 위한 추천자료

      해외이동버튼