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예시)

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저자

Matsumoto, O. ; Takemura, K.
발행기관

Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
학술지명
INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA CHEMISTRY
권호사항

Vol.3 No.- [1993]
발행연도
1993년
작성언어
eng
주제어

plasma chemistry ; ISPC ; IUPAC ; IEE
자료형태
학술저널
원정보자원
INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA CHEMISTRY
수록면
1053-1058 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
국제 표준도서번호
0952214903; 0952214938
회의자료명
Plasma chemistry
회의명
International symposium; 11th
대체회의명
Eleventh international symposium on plasma chemistry
회의장소
Loughborough
회의날짜
1993; Aug
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The Reactive Sputtering of Oxides and Nitrides
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Howson, R. P.
- 1993
Growth, Morphology and Interactions of Dust in Plasmas
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Garscadden, A.
- 1993
High Rate Deposition of Device Quality a-Si:H
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Suchaneck, G.;Alhallani, B.;Steinke, B.;Wirbeleit, O.
- 1993
Thin Film Deposition of Conducting Tin Oxide from TMT in a Low Pressure Glow Discharged Diode Reactor
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Farber, Y.;Arefi, F.;Amouroux, J.
- 1993