자외선 및 진공자외선 광원의 제작에 관한 연구

국문 초록 (Abstract)

유전장벽 방전(또는 silent 방전)은 조절된 마이크로아크방전 형태로서 비교적 높은 압력(0.1~수 기압)에서도 방전이 안정하므로 엑시머 생성에 의한 진공자외선 및 자외선 광원으로 적합하다. 본 연구에서는 평면형 및 원통형 유전장벽 방전장치를 제작하였고 Ar, Kr, Xe와 3% F₂/He의 혼합기체를 이용하여 ArF^*(193 ㎚), KrF^*(248 ㎚), XeF^*(351 ㎚) 엑시머자외선 생성실험을 수행하였다. 또한 부하전력, 기체압력, 기체조성 등의 방전조건에 대한 KrF^*(248 ㎚) 발광세기의 의존성을 조사하였다.

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

A dielectric barrier discharge is a type of controlled microarc which can be operated at high gas pressures, therefore suitable for VUV light generation based on excimer formation. We have constructed a planar and an annular types of dielectric barrier discharge systems. Using Ar, Kr and Xe mixed wim a 3% F₂/He gas, UV emission at 193 ㎚(ArF^*), 248 ㎚(KrF^*) and 351 ㎚(XeF^*) could be obtained. The dependence of KrF^*(248 ㎚) emission intensity on me discharge conditions such as the input power, gas pressure, and the gas composition was investigated.

목차 (Table of Contents)

• 요약
  
• Abstract
  
• 1. 서론
  
• 2. 실험 장치 및 실험방법
  
• 3. 결과 및 고찰
  
• 4. 결론
  
• 감사의 글
  
• 참고문헌