A Study on the Estimation of Damage by Leaking of NH₃ and Cl₂ applied to LPCVD

국문 초록 (Abstract)

첨단과학이 발전하면서 반도체의 필요성은 끊임없이 요구되고 있으며, 이러한 반도체 공정에서는 다량의 독성가스를 이용한 공정이 많다. 이러한 공정에서 가스의 누설로 인한 사고의 위험성은 항상 내재되어 있는 실정이다. 특히 국내 독성가스 사고는 암모니아와 염소에 의한 사고가 대부분이다. 따라서 본 논문에서는 LPCVD 공정에서 사용하는 암모니아와 염소의 누출로 인한 피해를 예측하여 안전에 만전을 기하고자 한다.

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

As high-tech science has developed, the need of semiconductor is required constantly. However, there are many processes which use a great deal of poisonous gas in the semiconductor process, so the dangerousness by a gas leak is latent in these processes. Especially, the accident of toxic gas is almost made by ammonia and chlorine. Therefore this report estimates the damage by the leak of ammonia and chlorine used in LPCVD system.