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2017년
eng
0734-2101
1520-8559
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
Journal of Vacuum Science and Technology A
01B133 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Quasi-atomic layer etching of silicon nitride
Atomic layer etching of SiO2 by alternating an O2 plasma with fluorocarbon film deposition