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Dai, M. ; Kwon, J. ; Chabal, Y.J. ; Halls, M.D. ; Gordon, R.
2009년
eng
1946-4274
학술저널
MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIA PROCEEDINGS
41-46 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
9781605111285; 1605111287
CMOS gate-stack scaling-- materials, interfaces and reliability implications
Symposium
San Francisco, CA
2009; Apr
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Defects in HfO~2-Based Dielectric Gate Stacks
Investigating the Interfacial Properties of Hf-Based/Si and SiO~2/Si Gate Stacks