RISS 검색 - 해외학술지논문 상세보기

다국어 입력

あぁかがさざただなはばぱまやゃらわゎんいぃきぎしじちぢにひびぴみりうぅくぐすずつづっぬふぶぷむゆゅるえぇけげせぜてでねへべぺめれおぉこごそぞとどのほぼぽもよょろを

アァカサザタダナハバパマヤャラワヮンイィキギシジチヂニヒビピミリウゥクグスズツヅッヌフブプムユュルエェケゲセゼテデヘベペメレオォコゴソゾトドノホボポモヨョロヲ ―

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)

ㅥ ㅦ ㅧ ㅨ ㅩ ㅪ ㅫ ㅬ ㅭ ㅮ ㅯ ㅰ ㅱ ㅲ ㅳ ㅴ ㅵ ㅶ ㅷ ㅸ ㅹ ㅺ ㅻ ㅼ ㅽ ㅾ ㅿ ㆀ ㆁ ㆂ ㆃ ㆄ ㆅ ㆆ ㆇ ㆈ ㆉ ㆊ ㆋ ㆌ ㆍ ㆎ

Α Β Γ Δ Ε Ζ Η Θ Ι Κ Λ Μ Ν Ξ Ο Π Ρ Σ Τ Υ Φ Χ Ψ Ω α β γ δ ε ζ η θ ι κ λ μ ν ξ ο π ρ σ τ υ φ χ ψ ω

á à Á À é è É È ç Ç ê

Ä Ö Ü ä ö ü ß

‘ ’ “ ” 〔〕〈〉「」『』【】＂（）［］｛｝

± × ÷ ≠ ≤ ≥ ∞ ∴ ♂ ♀ ∠ ⊥ ⌒ ∂ ∇ ≡ ≒ ≪ ≫ √ ∽ ∝ ∵ ∫ ∬ ∈ ∋ ⊆ ⊇ ⊂ ⊃ ∪ ∩ ∧ ∨ ￢ ⇒ ⇔ ∀ ∃ ∮ ∑ ∏ ＋－＜＝＞

、。 · ‥ … ¨ 〃 ― ∥ ＼ ∼ ´ ～ ˇ ˘ ˝ ˚ ˙ ¸ ˛ ¡ ¿ ː ！＇，．／：；？＾＿｀｜

½ ⅓ ⅔ ¼ ¾ ⅛ ⅜ ⅝ ⅞ ¹ ² ³ ⁴ ⁿ ₁ ₂ ₃ ₄

Æ Ð Ħ Ĳ Ł Ø Œ Þ Ŧ Ŋ æ đ ð ħ ı ĳ ĸ ŀ ł ø œ ß þ ŧ ŋ ŉ

А Б В Г Д Е Ё Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я а б в г д е ё ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ ъ ы ь э ю я

′ ″ ℃ Å ￠￡￥ ¤ ℉ ‰ ＄％Ｆ￦㎕㎖㎗ ℓ ㎘㏄㎣㎤㎥㎦㎙㎚㎛㎜㎝㎞㎟㎠㎡㎢㏊㎍㎎㎏㏏㎈㎉㏈㎧㎨㎰㎱㎲㎳㎴㎵㎶㎷㎸㎹㎀㎁㎂㎃㎄㎺㎻㎽㎾㎿㎐㎑㎒㎓㎔ Ω ㏀㏁㎊㎋㎌㏖㏅㎭㎮㎯㏛㎩㎪㎫㎬㏝㏐㏓㏃㏉㏜㏆

§ ※ ☆ ★ ○ ● ◎ ◇ ◆ □ ■ △ ▽ → ← ↑ ↓ ↔ 〓 ◁ ◀ ▷ ▶ ♤ ♠ ♡ ♥ ♧ ♣ ⊙ ◈ ▣ ◐ ◑ ▒ ▤ ▥ ▨ ▧ ▦ ▩ ♨ ☏ ☎ ☜ ☞ ¶ † ‡ ↕ ↗ ↙ ↖ ↘ ♭ ♩ ♪ ♬ ㉿㈜ № ㏇ ™ ㏂㏘ ℡ ＃＆＊＠ ª º

ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ

ا ب ت ث ج ح خ د ذ ر ز س ش ص ض ط ظ ع غ ف ق ک ل م ن ه و ی

RISS 인기검색어

한글로보기

https://www.riss.kr/link?id=O37973402

저자

Sato, M. ; Tukuda, H. ; Akashi, K.
발행기관

Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
학술지명
INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA CHEMISTRY
권호사항

Vol.3 No.- [1993]
발행연도
1993년
작성언어
eng
주제어

plasma chemistry ; ISPC ; IUPAC ; IEE
자료형태
학술저널
원정보자원
INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA CHEMISTRY
수록면
799-804 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
국제 표준도서번호
0952214903; 0952214938
회의자료명
Plasma chemistry
회의명
International symposium; 11th
대체회의명
Eleventh international symposium on plasma chemistry
회의장소
Loughborough
회의날짜
1993; Aug
ⓒ COPYRIGHT THE BRITISH LIBRARY BOARD: ALL RIGHT RESERVED

The Reactive Sputtering of Oxides and Nitrides
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Howson, R. P.
- 1993
Growth, Morphology and Interactions of Dust in Plasmas
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Garscadden, A.
- 1993
High Rate Deposition of Device Quality a-Si:H
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Suchaneck, G.;Alhallani, B.;Steinke, B.;Wirbeleit, O.
- 1993
Thin Film Deposition of Conducting Tin Oxide from TMT in a Low Pressure Glow Discharged Diode Reactor
- Subcommittee on Plasma Chemistry, International Union of Pure and Applied Chemistry
- Farber, Y.;Arefi, F.;Amouroux, J.
- 1993