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      SCIE SCOPUS KCI등재

      나노 임프린트 기법을 위한 고분자 복제 몰드 제작법 = Fabrication of Replica Polymer Mold for Imprint Lithography

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      https://www.riss.kr/link?id=A75323317

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      We introduce a universal strategy virtually applicable to any types of stamping molds to achieve anti-adhesion surface for simple and rapid fabrication and replication of nanostructures with high fidelity. The surface of various hard and soft molds ir...

      We introduce a universal strategy virtually applicable to any types of stamping molds to achieve anti-adhesion surface for simple and rapid fabrication and replication of nanostructures with high fidelity. The surface of various hard and soft molds irrespective of basic mold materials have been bound strongly and covalently with poly(dimethylsiloxane) (PDMS), which has a good and optimum surface property for molding process such as low surface energy and low adhesion property like normal PDMS mold. In particular, nano-featured replica molds were fabricated from SiO2 nanostructures with general UV-curing polymers. With this method, we replicated complex nanostructures with high aspect ratios on various substrates over several square inches.

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