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      KCI등재

      전산유동가시화를 활용한 웨이퍼 이송장치의 복사열전달에 관한 연구 = A Study on Radiation Heat Transfer of Wafer Transfer Module Using Computational Flow Visualization

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      https://www.riss.kr/link?id=A108368190

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      The high heat emitted from the process module and heat jacket may cause errors in semiconductor process equipment. Barriers were designed to reduce the temperature of surface on transfer module. A designed barrier was compared and analyzed by numerica...

      The high heat emitted from the process module and heat jacket may cause errors in semiconductor process equipment. Barriers were designed to reduce the temperature of surface on transfer module. A designed barrier was compared and analyzed by numerical analysis using ANSYS Fluent. The average temperature of barrier and effect of radiation heat transfer were also compared through absorbed radiative heat flux of the barrier. The adoption of the barrier had an effect on the radiative heat transfer reduction of the transfer module rod. The effect of the angles of barrier from 50° to 90° on the heat transfer was investigated using the absorbed radiative heat flux with the average temperature. The angle of barrier of 50° reduced the temperature up to 9.6 %.

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      참고문헌 (Reference) 논문관계도

      1 최광민 ; 이지은 ; 조귀영 ; 김관식 ; 조수헌, "반도체 웨이퍼 제조공정 클린룸 구조, 공기조화 및 오염제어시스템" 한국산업보건학회 25 (25): 202-210, 2015

      2 김대현 ; 김광선, "반도체 식각 공정용 냉각 시스템 구축을 위한 AMESim 모델 개발" 한국반도체디스플레이기술학회 16 (16): 106-110, 2017

      3 차동안 ; 권오경 ; 오명도, "반도체 공정 온도제어용 칠러의 실험적 연구" 대한기계학회 35 (35): 459-465, 2011

      4 Jia, L., "Study on the performance of two water-side free cooling methods in a semiconductor manufacturing factory" 243 : 110977-, 2021

      5 Yu G.H., "Reduce air conditioning energy in semiconductor/display cleanroom" 20 (20): 1-18, 2007

      6 Song W. I., "Evaluation of Annual Power Consumption in Semiconductor Manufacturing Clean Rooms Using High-Temperature Chilled Water System" 2015

      7 ANSYS, INC, "Ansys Fluent Theory Guide Release 2021R1"

      1 최광민 ; 이지은 ; 조귀영 ; 김관식 ; 조수헌, "반도체 웨이퍼 제조공정 클린룸 구조, 공기조화 및 오염제어시스템" 한국산업보건학회 25 (25): 202-210, 2015

      2 김대현 ; 김광선, "반도체 식각 공정용 냉각 시스템 구축을 위한 AMESim 모델 개발" 한국반도체디스플레이기술학회 16 (16): 106-110, 2017

      3 차동안 ; 권오경 ; 오명도, "반도체 공정 온도제어용 칠러의 실험적 연구" 대한기계학회 35 (35): 459-465, 2011

      4 Jia, L., "Study on the performance of two water-side free cooling methods in a semiconductor manufacturing factory" 243 : 110977-, 2021

      5 Yu G.H., "Reduce air conditioning energy in semiconductor/display cleanroom" 20 (20): 1-18, 2007

      6 Song W. I., "Evaluation of Annual Power Consumption in Semiconductor Manufacturing Clean Rooms Using High-Temperature Chilled Water System" 2015

      7 ANSYS, INC, "Ansys Fluent Theory Guide Release 2021R1"

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