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Packaging of optical fibers using microfabricated nickel clamps
Dai, X.; Zhao, X.; Ding, G.; Wang, H.; Cai, B. SPIE 2008 p.010501
Vectorial imaging of deep subwavelength mask features in high NA ArF lithography
Cheng, W.-H.; Farnsworth, J.; Bloomstein, T. SPIE 2008 p.013001
Kahng, A.B.; Muddu, S.; Park, C.-H. SPIE 2008 p.013002
Extreme ultraviolet light production from a ZaP flow z-pinch xenon plasma
Munson, K.A.; Shumlak, U.; Nelson, B.A. SPIE 2008 p.013003
Nonlinear interferometric lithography for arbitrary two-dimensional patterns
Bentley, S.J. SPIE 2008 p.013004
High-dose exposure of silicon in electron beam lithography
Grigorescu, A.E.; van der Krogt, M.C.; van der Drift, E.W.J.M.; Hagen, C.W. SPIE 2008 p.013005
Al-Assaad, R.M.; Tao, L.; Hu, W. SPIE 2008 p.013008
Fabrication and evaluation of a grayscale mask for x-ray lithography using MEMS technology
Mekaru, H.; Takano, T.; Awazu, K.; Takahashi, M.; Maeda, R. SPIE 2008 p.013009
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