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예시)

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ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ

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저자

Morikawa, Y. ; Koidesawa, T. ; Hayashi, T. ; Suu, K.
발행기관

Institute of Electrical Engineers of Japan
학술지명
PROCEEDINGS OF SYMPOSIUM ON DRY PROCESS
권호사항

Vol.5 No.- [2005]
발행연도
2005년
작성언어
eng
주제어

Dry process ; DPS
자료형태
학술저널
원정보자원
PROCEEDINGS OF SYMPOSIUM ON DRY PROCESS
수록면
375-376 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
회의자료명
Proceedings of 5th international symposium on dry process (27th since 1979)
회의명
5th
회의장소
Jeju, Korea
회의날짜
2005; Nov
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Current and Future Memory Technology
- Institute of Electrical Engineers of Japan
- Chung, U.-I.
- 2005
Contact Hole Etching Challenges for Nano Era
- Institute of Electrical Engineers of Japan
- Lee, S. K.; Lee, M. S.; Shin, K. S.; Kim, Y. C.; Sun, J. H.; Jung, T. W.; Lee, D. D.; Moon, S. C.; Kim, J. W.
- 2005
Etching Characteristics and Modeling for Oval-Shape Contact
- Institute of Electrical Engineers of Japan
- Park, S. C.; Lim, S.; Shin, C. H.; Min, G. J.; Kang, C. J.; Cho, H. K.; Moon, J. T.
- 2005
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- 2005