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      전기화학적 방법을 이용하여 Sb<SUB>x</SUB>Te<SUB>y</SUB> 전착 및 계면활성제에 따른 영향 = Effect of a surfactant on Sb<SUB>x</SUB>Te<SUB>y</SUB> thin films prepared by electrodeposition

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      https://www.riss.kr/link?id=A82518375

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      국문 초록 (Abstract)

      본 연구에서는 Sb-Te 박막을 전기화학적 방법으로 형성하여 조성 및 전기적 특성을 분석하였다. Sb₂Te₃ 박막은 Sb(Ⅲ):Te(Ⅳ) 농도비가 1:3, 인가된 전위값이 -0.15V vs. SCE 일 때 화학양론을 만족시켰다. 그러나 표면이 매끄럽지 못하고, 박막의 균일성이 좋지 못하여 계면활성제 CTAB(cetyl trimethyl ammonium bromide)를 첨가하여 도금용액의 조성비 및 도금전위를 제어하여 화학양론을 만족시키는 고품위 Sb-Te 박막을 제조하였다.
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      본 연구에서는 Sb-Te 박막을 전기화학적 방법으로 형성하여 조성 및 전기적 특성을 분석하였다. Sb₂Te₃ 박막은 Sb(Ⅲ):Te(Ⅳ) 농도비가 1:3, 인가된 전위값이 -0.15V vs. SCE 일 때 화학양론을 만족...

      본 연구에서는 Sb-Te 박막을 전기화학적 방법으로 형성하여 조성 및 전기적 특성을 분석하였다. Sb₂Te₃ 박막은 Sb(Ⅲ):Te(Ⅳ) 농도비가 1:3, 인가된 전위값이 -0.15V vs. SCE 일 때 화학양론을 만족시켰다. 그러나 표면이 매끄럽지 못하고, 박막의 균일성이 좋지 못하여 계면활성제 CTAB(cetyl trimethyl ammonium bromide)를 첨가하여 도금용액의 조성비 및 도금전위를 제어하여 화학양론을 만족시키는 고품위 Sb-Te 박막을 제조하였다.

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