본 연구에서는 Sb-Te 박막을 전기화학적 방법으로 형성하여 조성 및 전기적 특성을 분석하였다. Sb₂Te₃ 박막은 Sb(Ⅲ):Te(Ⅳ) 농도비가 1:3, 인가된 전위값이 -0.15V vs. SCE 일 때 화학양론을 만족...
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2010
Korean
581
학술저널
95-96(2쪽)
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본 연구에서는 Sb-Te 박막을 전기화학적 방법으로 형성하여 조성 및 전기적 특성을 분석하였다. Sb₂Te₃ 박막은 Sb(Ⅲ):Te(Ⅳ) 농도비가 1:3, 인가된 전위값이 -0.15V vs. SCE 일 때 화학양론을 만족...
본 연구에서는 Sb-Te 박막을 전기화학적 방법으로 형성하여 조성 및 전기적 특성을 분석하였다. Sb₂Te₃ 박막은 Sb(Ⅲ):Te(Ⅳ) 농도비가 1:3, 인가된 전위값이 -0.15V vs. SCE 일 때 화학양론을 만족시켰다. 그러나 표면이 매끄럽지 못하고, 박막의 균일성이 좋지 못하여 계면활성제 CTAB(cetyl trimethyl ammonium bromide)를 첨가하여 도금용액의 조성비 및 도금전위를 제어하여 화학양론을 만족시키는 고품위 Sb-Te 박막을 제조하였다.
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