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      KCI등재

      집적회로의 다층 금속 배선에서의 혼신 특성 해석에 관한 연구 = Study on the analysis of Crosstalk at Interconnects in Integrated Circuits

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      https://www.riss.kr/link?id=A104282444

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      This paper reports the frequency characteristics and the time response of parallel adjacent-transmission lines, crossed adjacent-transmission lines and parallel adjacent-transmission lines which are on the different planes by using FDTD-PML method. In...

      This paper reports the frequency characteristics and the time response of parallel adjacent-transmission lines, crossed adjacent-transmission lines and parallel adjacent-transmission lines which are on the different planes by using FDTD-PML method. In the parallel adjacent-transmission lines, the crosstalks as a function of horizontal distance are calculated and in the crossed adjacent- transmission lines, the crosstalks as a function of vertical distance are simulated. Also, the crosstalks as functions of horizontal and vertical distances are measured and analyzed in the parallel adjacent-transmission lines which are on the different planes.

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      국문 초록 (Abstract)

      본 논문에서는 유한 차분 시간 영역(FDTD, Finite Differential Time Domain)법과 완전 정합층(PML, Perfectly Matched Layer) 방법을 이용하여 반도체 다층 배선이 평행하게 인접하거나, 교차하면서 인접하는 ...

      본 논문에서는 유한 차분 시간 영역(FDTD, Finite Differential Time Domain)법과 완전 정합층(PML, Perfectly Matched Layer) 방법을 이용하여 반도체 다층 배선이 평행하게 인접하거나, 교차하면서 인접하는 구조뿐 아니라, 평행하게 인접하면서 다른 평면 상에 두 배선이 존재하는 3차원 다층 배선 구조에 대한 컴퓨터 수치 분석 방법을 보고한다. 평행한 인접 배선 구조에서는 수평 거리를 변화시키면서 출력 결과를 비교하였으며, 교차한 인접 배선 구조에서는 수직 거리를 변수로 하여 시간 영역과 주파수 영역에서의 출력 결과를 정량적으로 비교하였다. 또한, 평행하게 인접하면서 다른 평면상에 두 배선이 존재하는 3차원 다층 배선 구조에 대해서는 수평 거리와 수직 거리를 각각 변화시켜 가면서 출력되는 누화 특성을 측정하고 비교하였다.

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      참고문헌 (Reference)

      1 R. Sabelka, "The State of the Art in Interconnect Simula tion" 6-11, 2000.

      2 K. L. Shepard, "Return-Limited Inductances: A Practical Approach to On-Chip Inductance Extraction" 19 (19): 425-436, 2000.

      3 J.-P. Berenger, "Perfectly matched layer for the FDTD solution of wave-structure interaction problems" 44 (44): 110-117, 1996.

      4 K. S. Yee, "Numerical solution of initial boun dary value problems involving Maxwell's equa tions in isotropic media" 14 (14): 302-307, 1966.

      5 C.-P. Chen, "Generalized FDTD-ADI: An Uncon ditionally Stable Full-wave Maxwell's Equations Solver for VLSI interconnect Modeling" 156-164, 2000.

      6 M. W. Beattie, "Bounds for BEM Capacitance Extraction" 133-136, 1997.

      7 U. Choundhury,, "Automatic Generation of Analytical Models for Interconnect Capacitances" 14 (14): 470-480, 1995.

      1 R. Sabelka, "The State of the Art in Interconnect Simula tion" 6-11, 2000.

      2 K. L. Shepard, "Return-Limited Inductances: A Practical Approach to On-Chip Inductance Extraction" 19 (19): 425-436, 2000.

      3 J.-P. Berenger, "Perfectly matched layer for the FDTD solution of wave-structure interaction problems" 44 (44): 110-117, 1996.

      4 K. S. Yee, "Numerical solution of initial boun dary value problems involving Maxwell's equa tions in isotropic media" 14 (14): 302-307, 1966.

      5 C.-P. Chen, "Generalized FDTD-ADI: An Uncon ditionally Stable Full-wave Maxwell's Equations Solver for VLSI interconnect Modeling" 156-164, 2000.

      6 M. W. Beattie, "Bounds for BEM Capacitance Extraction" 133-136, 1997.

      7 U. Choundhury,, "Automatic Generation of Analytical Models for Interconnect Capacitances" 14 (14): 470-480, 1995.

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      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      2014-01-21 학회명변경 영문명 : The Institute Of Electronics Engineers Of Korea -> The Institute of Electronics and Information Engineers
      2012-09-01 평가 학술지 통합(등재유지)
      2011-01-01 평가 등재학술지 유지(등재유지) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재학술지 유지(등재유지) KCI등재
      2007-10-04 학술지명변경 한글명 : 전자공학회논문지 - SD</br>외국어명 : SemiconductorandDevices KCI등재
      2007-01-01 평가 등재학술지 유지(등재유지) KCI등재
      2005-01-01 평가 등재학술지 유지(등재유지) KCI등재
      2002-07-01 평가 등재학술지 선정(등재후보2차) KCI등재
      2000-01-01 평가 등재후보학술지 선정(신규평가) KCI등재후보
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