Fractal concepts are used to explore how different energies (10, 20 and 50 keV) and fluence of 5 × 1017 N+ cm−2 affect the morphology of nickel thin film. The nickel thin film with thickness of 100 nm is prepared by electron beam evaporation techni...
Fractal concepts are used to explore how different energies (10, 20 and 50 keV) and fluence of 5 × 1017 N+ cm−2 affect the morphology of nickel thin film. The nickel thin film with thickness of 100 nm is prepared by electron beam evaporation technique at room temperature on stainless steel (AISI 316) substrates. The nanoscale three‐dimensional (3‐D) surface micro‐morphologies are investigated by atomic force microscopy (AFM). Interface width is used to describe the surface height fluctuations. The autocorrelation function with height‐height correlation function give the quantitative data about the morphology of surface. The value of roughness exponent and fractal dimension is computed by height‐height correlation function. Fractal measure is an important analysis which provides fundamental insights into the texture characteristics and a direct way of testing their functional role.
Analyse der fraktalen Eigenschaften dünner, mit niederenergetischen Stickstoffionen modifizierter Nickelschichten
Fraktale Konzepte werden verwendet, um zu untersuchen, wie sich die Morphologie dünner Nickelschichten unter Beschuss mit Stickstoffionen verschiedener Energien (10, 20 und 50 keV) und konstanter Flussdichte (5 × 1017 cm−2) verändert. Die Schichten wurden mit einer Dicke von 100 nm durch Elektronenstrahlverdampfung bei Raumtemperatur auf Substraten aus Edelstahl (AISI 316) abgeschieden und die nanoskaligen dreidimensionalen (3‐D) Oberflächenmorphologien mittels Rasterkraftmikroskopie (AFM) untersucht. Die Ergebnisse gewähren Einblicke in die Oberflächenbeschaffenheit dünner Schichten und bieten eine direkte Möglichkeit, ihre Funktionsfähigkeit abzuschätzen.