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      KCI등재

      원자층 증착법을 이용한 열전 소재 연구 동향 = Recent progress on Performance Improvements of Thermoelectric Materials using Atomic Layer Deposition

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      https://www.riss.kr/link?id=A108049704

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      Atomic layer deposition (ALD) is a promising technology for the uniform deposition of thin films. ALD is based on a self-limiting mechanism, which can effectively deposit thin films on the surfaces of powders of various sizes. Numerous studies are und...

      Atomic layer deposition (ALD) is a promising technology for the uniform deposition of thin films. ALD is based on a self-limiting mechanism, which can effectively deposit thin films on the surfaces of powders of various sizes. Numerous studies are underway to improve the performance of thermoelectric materials by forming core-shell structures in which various materials are deposited on the powder surface using ALD. Thermoelectric materials are especially relevant as clean energy storage materials due to their ability to interconvert between thermal and electrical energy by the Seebeck and Peltier effects. Herein, we introduce a surface and interface modification strategy based on ALD to control the performance of thermoelectric materials. We also discuss the properties of the interface between various deposition materials and thermoelectric materials.

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      참고문헌 (Reference)

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      27 K.-C. Kim, 13 : 7146-, 2019

      28 S.-S. Lim, 10 : 572-, 2020

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      40 A. Schmitz, 17 : 1547-, 2017

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      45 S. Li, 9 : 11442-, 2021

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      2022-01-27 학회명변경 한글명 : 한국분말야금학회 -> 한국분말재료학회
      영문명 : Korean Powder Metallurgy Institute -> The Korean Powder Metallurgy and Materials Institute      		 KCI등재
      2022-01-01 학술지명변경 한글명 : 한국분말야금학회지 -> 한국분말재료학회지
      외국어명 : JOURAL OF KOREAN POWER METALLURGY INSTIT -> Journal of Powder Materials      		 KCI등재
      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (재인증) KCI등재
      2017-01-01 평가 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
      2013-01-01 평가 등재 1차 FAIL (등재유지) KCI등재
      2010-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2008-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2006-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2004-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2001-07-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      1999-01-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
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      학술지 인용정보

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      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.32 0.32 0.27
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.24 0.2 0.448 0.06
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