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2004년
eng
0963-0252
1361-6595
SCI;SCIE;SCOPUS
학술저널
PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY
680-690 [※수록면이 p5 이하이면, Review, Columns, Editor's Note, Abstract 등일 경우가 있습니다.]
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Characteristics of an inductively coupled plasma source using a parallel resonance antenna
Ionization kinetics and E-H mode transition in a noble gas, low-pressure pulsed ICP discharge