RISS 검색 - 해외학술지논문 상세보기

다국어 입력

あぁかがさざただなはばぱまやゃらわゎんいぃきぎしじちぢにひびぴみりうぅくぐすずつづっぬふぶぷむゆゅるえぇけげせぜてでねへべぺめれおぉこごそぞとどのほぼぽもよょろを

アァカサザタダナハバパマヤャラワヮンイィキギシジチヂニヒビピミリウゥクグスズツヅッヌフブプムユュルエェケゲセゼテデヘベペメレオォコゴソゾトドノホボポモヨョロヲ ―

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)

ㅥ ㅦ ㅧ ㅨ ㅩ ㅪ ㅫ ㅬ ㅭ ㅮ ㅯ ㅰ ㅱ ㅲ ㅳ ㅴ ㅵ ㅶ ㅷ ㅸ ㅹ ㅺ ㅻ ㅼ ㅽ ㅾ ㅿ ㆀ ㆁ ㆂ ㆃ ㆄ ㆅ ㆆ ㆇ ㆈ ㆉ ㆊ ㆋ ㆌ ㆍ ㆎ

Α Β Γ Δ Ε Ζ Η Θ Ι Κ Λ Μ Ν Ξ Ο Π Ρ Σ Τ Υ Φ Χ Ψ Ω α β γ δ ε ζ η θ ι κ λ μ ν ξ ο π ρ σ τ υ φ χ ψ ω

á à Á À é è É È ç Ç ê

Ä Ö Ü ä ö ü ß

‘ ’ “ ” 〔〕〈〉「」『』【】＂（）［］｛｝

± × ÷ ≠ ≤ ≥ ∞ ∴ ♂ ♀ ∠ ⊥ ⌒ ∂ ∇ ≡ ≒ ≪ ≫ √ ∽ ∝ ∵ ∫ ∬ ∈ ∋ ⊆ ⊇ ⊂ ⊃ ∪ ∩ ∧ ∨ ￢ ⇒ ⇔ ∀ ∃ ∮ ∑ ∏ ＋－＜＝＞

、。 · ‥ … ¨ 〃 ― ∥ ＼ ∼ ´ ～ ˇ ˘ ˝ ˚ ˙ ¸ ˛ ¡ ¿ ː ！＇，．／：；？＾＿｀｜

½ ⅓ ⅔ ¼ ¾ ⅛ ⅜ ⅝ ⅞ ¹ ² ³ ⁴ ⁿ ₁ ₂ ₃ ₄

Æ Ð Ħ Ĳ Ł Ø Œ Þ Ŧ Ŋ æ đ ð ħ ı ĳ ĸ ŀ ł ø œ ß þ ŧ ŋ ŉ

А Б В Г Д Е Ё Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я а б в г д е ё ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ ъ ы ь э ю я

′ ″ ℃ Å ￠￡￥ ¤ ℉ ‰ ＄％Ｆ￦㎕㎖㎗ ℓ ㎘㏄㎣㎤㎥㎦㎙㎚㎛㎜㎝㎞㎟㎠㎡㎢㏊㎍㎎㎏㏏㎈㎉㏈㎧㎨㎰㎱㎲㎳㎴㎵㎶㎷㎸㎹㎀㎁㎂㎃㎄㎺㎻㎽㎾㎿㎐㎑㎒㎓㎔ Ω ㏀㏁㎊㎋㎌㏖㏅㎭㎮㎯㏛㎩㎪㎫㎬㏝㏐㏓㏃㏉㏜㏆

§ ※ ☆ ★ ○ ● ◎ ◇ ◆ □ ■ △ ▽ → ← ↑ ↓ ↔ 〓 ◁ ◀ ▷ ▶ ♤ ♠ ♡ ♥ ♧ ♣ ⊙ ◈ ▣ ◐ ◑ ▒ ▤ ▥ ▨ ▧ ▦ ▩ ♨ ☏ ☎ ☜ ☞ ¶ † ‡ ↕ ↗ ↙ ↖ ↘ ♭ ♩ ♪ ♬ ㉿㈜ № ㏇ ™ ㏂㏘ ℡ ＃＆＊＠ ª º

ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ

ا ب ت ث ج ح خ د ذ ر ز س ش ص ض ط ظ ع غ ف ق ک ل م ن ه و ی

RISS 인기검색어

한글로보기

https://www.riss.kr/link?id=O138511199

Comparison of CH4/H2
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Pearton, S. J.;Chakrabarti, U. K.;Katz, A.;Perley, A. P.;Hobson, W. S.Constantine, C.
- 1991
- SCIE
Reactive sputtering of InP in N2 and N2/O2 plasmas
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Sundararaman, C. S.;Lafontaine, H.;Poulin, S.;Mouton, A.Currie, J. F.
- 1991
- SCIE
Chemically assisted ion beam etching of InP and InSb using reactive flux of iodine and Ar+ beam
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Bharadwaj, L. M.;Bonhomme, P.;Faure, J.;Balossier, G.Bajpai, R. P.
- 1991
- SCIE
AlInAs/InGaAs based heterojunction bipolar transistors fabricated by electron cyclotron resonance etch
- AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
- Fullowan, T. R.;Pearton, S. J.;Kopf, K. F.Smith, P. R.
- 1991
- SCIE