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      기포 제거 공정을 통한 유연한 디스플레이 합착 면의 투과율 및 접착력 향상 = Enhancement of Transmittance and Adhesion of Flexible Display Adhesion Surface by Bubble Removing Process

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      https://www.riss.kr/link?id=A105453556

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      With the development of the Internet of Things, the use of flexible displays has become widespread. In particular, the use of curved, bendable, and rollable displays is increasing. Flexible display production processes include various important compon...

      With the development of the Internet of Things, the use of flexible displays has become widespread. In particular, the use of curved, bendable, and rollable displays is increasing. Flexible display production processes include various important components such as lamination material, flexible substrates, and adhesives. Among them, improvement of the lamination process comprises a large proportion of efforts for further development. In this paper, we attempt to improve the transmittance of the display substrate by performing a bubble removal process after adhesion. The transmittance of the glass substrate with the bubble removal process was 5~12% higher than that of the substrate without the bubble removal process. The fill-strength after the bubble removal process was improved by 21.4%, and the shear-strength was improved by 43.9%.

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      참고문헌 (Reference)

      1 S. Kim, 58 : 3609-, 2011

      2 D. Huanga, 150 : G412-, 2003

      3 S. An, 47 : 706-, 2010

      4 S. Kim, 23 : 3475-, 2011

      5 D. U. Jin, 47 : 703-, 2010

      6 J. S. Park, 95 : 013503-, 2009

      7 A. Sugimoto, 10 : 107-, 2004

      8 A. C. Arias, 110 : 3-, 2010

      9 I. Kim, 10 : 9-, 2007

      10 D. H. Kim, 333 : 838-, 2011

      1 S. Kim, 58 : 3609-, 2011

      2 D. Huanga, 150 : G412-, 2003

      3 S. An, 47 : 706-, 2010

      4 S. Kim, 23 : 3475-, 2011

      5 D. U. Jin, 47 : 703-, 2010

      6 J. S. Park, 95 : 013503-, 2009

      7 A. Sugimoto, 10 : 107-, 2004

      8 A. C. Arias, 110 : 3-, 2010

      9 I. Kim, 10 : 9-, 2007

      10 D. H. Kim, 333 : 838-, 2011

      11 D. J. Lipomi, 6 : 788-, 2011

      12 T. Kim, Dankuk University 2016

      13 E. Jung, Sungkyunkwan University 2017

      14 C. Zhong, 23 : 326-, 2011

      15 T. Earmme, 22 : 4744-, 2010

      16 N. Aizawa, 5 : 5756-, 2014

      17 강석희, "플렉시블/웨어러블 일렉트로닉스 최신 연구동향" 대한용접접합학회 32 (32): 34-42, 2014

      18 I. Benedek, "Pressure-Sensitive Adhesives and Application" Marcel Dekker, Inc. 198-234, 2004

      19 C. Guillaume, "OLED Display Forecatsts 2016-2026"

      20 J. Kwak, "2014 - Yearbook of display technology" 69-, 2013

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      2010-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2008-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2006-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2005-05-30 학회명변경 영문명 : 미등록 -> The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers KCI등재
      2004-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2001-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
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