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Muta, H., Sakoda, T., Ueda, Y., Kawai, Y. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Chemical and Physical Nature of the Surface Layer Formed During Plasma Etching of Si
Donnelly, V. M., Layadi, N., Lee, J. T. C., Klemen [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Excitation of Sheath Oscillating Current by Superimposing Pulse Voltage
Sawa, Y., Shindo, H., Fujii, S., Horiike, Y. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
In-Wafer Micro-Monitor for Ion Energy Distribution Measurements of LSI Process Plasma
Itabashi, N., Kisu, T., Yokogawa, K., Yamamoto, S. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Generation Process of Fluorocarbon Radicals in ECR-CF~4 and C~4F~8 Plasmas
Miyata, K., Arai, H., Kuno, T., Hori, M. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Overview of NIST GEC RF Reference Cell and ICP Projects
Roberts, J. R., Benck, E. C., Schwabedissen, A. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
In-situ SiO~2 Surface Observation during NF~3 added Hydrogen and Water Vapor Plasma Downstream Treatment
Kikuchi, J., Nagasaka, M., Suzuki, M. T., Fujimura [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Kinetics of Ar^+^*(^2G~9~/~2) Metastable Ions and Transport of Argon Ions in ICP Reactor
Sadeghi, N., Derouard, J., De Grift, M. V., Kroese [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Measurements and Control of CH~3 Radical Density for Enhancement of Diamond Nucleation
Jeon, H., Hatta, A., Imagawa, K., Suzuki, H. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
Oxygen-Radical-Enhanced Polymerization of Siloxane Oligomers for Preparation of Polysiloxane Thin Films as Low-Dielectric-Constant Interlayer Dielectrics
Fujii, T., Yokoi, T., Hiramatsu, M., Nawata, M. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
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