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S-Passivation of the Ge Gate Stack Using (NH~4)~2S
Sioncke, S., Fleischmann, C., Lin, D., Vrancken, E Scitec Publications Ltd 2012 Diffusion and defect data, solid state data. Solid Vol.187 No.-
Optical activity effects in second harmonic generation from anisotropic chiral thin films
Sioncke, S. AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2000 The Journal of Chemical Physics Vol.113 No.17
Atomic layer deposition of Al2O3 on S-passivated Ge
Sioncke, S., Ceuppens, J., Lin, D., Nyns, L., Dela Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2011 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.88 No.7
S-passivation of the Ge gate stack: Tuning the gate stack properties by changing the atomic layer deposition oxidant precursor (8 pages)
Sioncke, S., Lin, H.C., Nyns, L., Brammertz, G., D AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2011 Journal of Applied Physics Vol.110 No.8
(Invited) Chemisorption Reaction Mechanisms for Atomic Layer Deposition of High-k Oxides on High Mobility Channels
Delabie, A., Sioncke, S., Van Elshocht, S., Caymax Pennington; Electrochemical Society 2010 ECS Transactions Vol.33 No.2
Mechanisms for the Trimethylaluminum Reaction in Aluminum Oxide Atomic Layer Deposition on Sulfur Passivated Germanium
Delabie, A., Sioncke, S., Rip, J., Van Elshocht, S AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 2011 The Journal of Physical Chemistry Part C Vol.115 No.35
Reaction mechanisms for atomic layer deposition of aluminum oxide on semiconductor substrates
Delabie, A., Sioncke, S., Rip, J., Van Elshocht, S American Vacuum Society 2012 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.30 No.1
Towards Passivation of Ge(100) Surfaces by Sulfur Adsorption from a (NH~4)~2S Solution: A Combined NEXAFS, STM and LEED Study
Fleischmann, C., Sioncke, S., Couet, S., Schoutede ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 2011 Journal of the Electrochemical Society Vol.158 No.5
Chemisorption Reaction Mechanisms for Atomic Layer Deposition of High-k Oxides on High Mobility Channels
Delabie, A., Sioncke, S., Van Elshocht, S., Caymax Pennington, NJ; Electrochemical Society 2010 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.- No.218
(Invited) Aluminium Oxide Atomic Layer Deposition on Semiconductor Substrates
Delabie, A., Sioncke, S., Rip, J., Van Elshocht, S Pennington, N.J.; Electrochemical Society 2011 ECS Transactions Vol.41 No.3
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