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Shacham‐Diamand, Yosi Y. The Electrochemical Society 2000 Electrochemical and solid-state letters Vol.3 No.6
Copper Transport in SiO~2
Shacham-Diamand, Y.,Li, J.,Hoffstetter, D.,Oldham, SIA 1990 TECHCON Vol.2 No.-
In-line x-ray fluorescence metrology of metals and ultrathin barrier layers for ULSI applications [3509-09]
Shacham-Diamand, Y. Y., Yokhin, B., Mazor, I., Kep SPIE 1998 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.- No.3509
Copper Nanolines Made by Electroless Deposition for ULSI Application
Shacham-Diamand, Y. SIA 1990 TECHCON Vol.2 No.-
The diffusion of ion-implanted arsenic in thermally grown SiO2
Shacham-Diamond, Yosi,Oldham, William G.Kazerounia Minerals, Metals & Materials Society and IEEE 1988 Journal of Electronic Materials Vol.17 No.6
Copper Transport in Thermal SiO~2
Shacham-Diamand, Y. ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 1993 Journal of the Electrochemical Society Vol.140 No.8
Multilayer Deposition of Electroless Copper, Nickel, Cobalt, and Their Alloys on Silicon for MEMS and ULSI Applications
Shacham-Diamand, Y.,Sverdlov, Y. Materials Research Society 1998 ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE IN Vol.- No.-
Electroless Deposition of Silver and Silver-Tungsten Films for Microelectronics and MEMS Applications
Shacham-Diamand, Y.,Inberg, A.,Sverdlov, Y.,Croito Electrochemical Society 1999 PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV Vol.34 No.-
Material Properties of Electroless 100-200 nm Thick CoWP Films
Shacham-Diamand, Y.,Sverdlov, Y.,Petrov, N.,Zhou, Electrochemical Society 1999 PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV Vol.34 No.-
The effect of hydrogen on boron diffusion in SiO2
Shacham-Diamand, YosiOldham, William G. Minerals, Metals & Materials Society and IEEE 1986 Journal of Electronic Materials Vol.15 No.4
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