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Successive Pulse Plasma Anodisation (SPPA): a Technique for Creating Thick Oxide Films
Howson, R. P., Danson, N. [Organizing Committee of ICRP-3/SPP-14] 1997 PROCEEDINGS OF THE SYMPOSIUM ON PLASMA PROCESSING Vol.14 No.-
The reactive sputtering of oxides and nitrides
Howson, R. P. BLACKWELL SCIENTIFIC PUBLICATIONS 1994 Pure and Applied Chemistry Vol.66 No.6
PROPERTIES OF CONDUCTING TRANSPARENT OXIDE-FILMS PRODUCED BY ION PLATING ONTO ROOM-TEMPERATURE SUBSTRATES
R. P. Howson, J. N. Avaratsiotis, M. I. Ridge, C. American Institute of Physics 1979 Applied Physics Letters Vol.35 No.2
Reactive sputtering of electrically conducting tin oxide
R.P. Howson, H. Barankova, A.G. Spencer Elsevier BV * North-Holland 1991 Thin Solid Films Vol.196 No.2
Optimized transparent and heat reflecting oxide and nitride films
Howson, R.P., Ridge, M.I., Suzuki, K. North-Holland Pub. Co 1984 Solar energy materials Vol.11 No.3
Substrate effects from an unbalanced magnetron
R.P. Howson, H.A. J'Afer, A.G. Spencer Elsevier BV * North-Holland 1990 Thin Solid Films Vol.193-194 No.1
Optical thin films obtained by plasma-induced chemical vapor deposition
P. Turner, R.P. Howson, C.A. Bishop Elsevier BV * North-Holland 1981 Thin Solid Films Vol.83 No.2
Charge storage in evaporated silicon oxide films
R.P. Howson, A. Taylor Elsevier BV * North-Holland 1970 Thin Solid Films Vol.6 No.1
Electro-reflectance;electro-transmittance in thin films of gold
R.P. Howson, J. Avaritsiotis, T. Fox Elsevier BV * North-Holland 1975 Thin Solid Films Vol.30 No.2
Reactive ion plating of metal oxides onto insulating substrates
R.P. Howson, J.N. Avaritsiotis, M.I. Ridge, C.A. B Elsevier BV * North-Holland 1979 Thin Solid Films Vol.58 No.2
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