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Characterization of silicon surface preparation processes for advanced gate dielectrics
Okorn-Schmidt, H.F International Business Machines Corp 1999 IBM journal of research and development Vol.43 No.3
Real-Time Monitoring of Wet Chemical Oxidation and Etching Processes on Semiconductor Surfaces for Process Optimization and Waste Minimization
Okorn-Schmidt, H. F., Teerlinck, I., Biesemans, S. Electrochemical Society 1996 PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV Vol.96-21 No.-
Process Parameter Control for BEOL TiN Hard Mask Etch-Back
Okorn-Schmidt, H., Engesser, P., Linder, M., Hofer Trans Tech Publications 2018 Diffusion and defect data Vol.2018 No.282
(Invited) Particle Cleaning Technologies to Meet Advanced Semiconductor Device Process Requirements
Okorn-Schmidt, H.F., Holsteyns, F., Lippert, A., M Pennington, N.J.; Electrochemical Society 2013 ECS Transactions Vol.58 No.6
Okorn-Schmidt, H. F., Teerlinck, I., Biesemans, S. The Society 1996 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.- No.2
(Invited) Particle Cleaning Technologies To Meet Advanced Semiconductor Device Process Requirements
Okorn-Schmidt, H.F., Holsteyns, F., Lippert, A., M Pennington, NJ; Electrochemical Society 2013 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.224 No.4
Characterization of Bulk and Interface Properties of Dielectric Layers and Stacks
Okorn-Schmidt, H. F.,Gusev, E. P.,Buchanan, D. A. Electrochemical Society 2000 PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV Vol.2000-2 No.-
Characterization of DI Water/O~3 Oxidation of Si(100) and Si(111) Surfaces by OCP Measurements
Okorn-Schmidt, H. F. Scitec Publications; 1999 2001 Solid State Phenomena Vol.76-77 No.-
High Mobility p-channel Germanium MOSFETs with a Thin Ge Oxynitride Gate Dielectric
Shang, H., Okorn-Schmidt, H., Chan, K. K., Copel, IEEE; 1998 2002 Technical digest Vol.- No.-
The Key for Advanced Single Wafer Cleaning: Gas Contend, Bubble Size Distribution and Chemistry
Lippert, A., Okorn-Schmidt, H., Obweger, R., Kumni Pennigton, N.J.:; Electrochemical Society, 2005 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.- No.2
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