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The roles of amorphous grain boundaries and the ��transformation in toughening SiC
MoberlyChan, W. J Elsevier Science 1998 Acta materialia Vol.46 No.5
On the crystallography of triple points in nonoxide ceramics: Epitaxial relationships are a function of statistics and geometry
MoberlyChan, W. J. San Francisco Press 1996 PROCEEDINGS OF THE ANNUAL MEETING- ELECTRON MICROS Vol.8 No.-
Controlling microstructural evolution to in-situ toughen and strengthen silicon carbide
MoberlyChan, W. J.,Cao, J. J.,DeJonghe, L. C. San Francisco Press 1996 PROCEEDINGS OF THE ANNUAL MEETING- ELECTRON MICROS Vol.8 No.-
Surface Modification Energized by FIB: The Influence of Etch Rates & Aspect Ratio on Ripple Wavelengths
Moberlychan, W. Warrendale, Pa.; Materials Research Society; 1999 2007 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.960 No.-
Imaging Defects in Nanometer-scale Semiconductor Crystals: Statistical Nucleation Events are Few in Small Crystals, but can Control Growth
MoberlyChan, W. J., Seryogin, G., Shalish, I., Wen SPRINGER 2005 Microscopy and Microanalysis Vol.11//SUP2 No.-
Moberlychan, W. Warrendale, Penn; Materials Research Society 2006 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.947-988 No.-
TEM of epitaxial thin films controlled by planes extending (near) normal to interface; with application to two methods to reduce crystal orientations in polycrystalline magnetic media
MoberlyChan, W., Dorsey, P. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2003 Journal of the European Ceramic Society Vol.23 No.15
Tem of epitaxial thin films controlled by planes extending (near) normal to interface
Moberlychan, Warren,Dorsey, Paul Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2003 Journal of the European Ceramic Society Vol.23 No.15
Surface Rippling & Ion Etch Yields of Diamond Using a Focused Ion Beam: With or Without Enhanced-Chemistry, Aspect Ratio Regulates Ion Etching
MoberlyChan, W. J.,Felter, T. E.Wall, M. A. Cambridge University Press 2006 MICROSCOPY TODAY Vol.14 No.6
Dual-beam focused ion beam/electron microscopy processing and metrology of redeposition during ion-surface 3D interactions, from micromachining to self-organized picostructures
MoberlyChan, W.J. IOP PUBLISHING LTD 2009 Journal of Physics, Condensed Matter Vol.21 No.22
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