RISS 처음 방문이세요?
학술연구정보서비스 검색
MyRISS
회원서비스
설정
About RISS
RISS 처음 방문 이세요?
고객센터
RISS 활용도 분석
최신/인기 학술자료
해외자료신청(E-DDS)
RISS API 센터
해외전자정보서비스 검색
Databases & Journals
해외전자자료 이용안내
해외전자자료 통계
http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
최근 검색 목록
통합검색 DB 원하는 DB만 선택하여 검색하실 수 있습니다.
A~C
D~L
M~W
- 해외DB품목별 바로가기 버튼()을 통하여 직접 접속 하시면, 접근 권한이 있는 이용자에 한해 DB별 검색 가능
- JCR, PML, ProQuest Central 품목은 체크박스에 개별 선택을 통한 제한 검색 불가
※ 구독기관 소속 이용자에 한하여 품목명 오른편의 바로가기 버튼() 으로 직접 접속이 가능하며, JCR은 통합검색 후 출력되는 화면 내에서도 이용 가능
개별검색 DB통합검색이 안되는 DB는 DB아이콘을 클릭하여 이용하실 수 있습니다.
전분야 전자저널
전분야 신문기사
교육분야
전분야
영어사전
법학분야
통계정보 및 조사/분석시스템
해외석박사학위논문 목록
해외석박사학위논문 원문
예술 / 패션
법률/뉴스정보(미국, 영연방)
법률/뉴스정보(일본)
법률/뉴스정보(중국)
법률/뉴스정보(프랑스)
<해외전자자료 이용권한 안내>
- 이용 대상 : RISS의 모든 해외전자자료는 교수, 강사, 대학(원)생, 연구원, 대학직원에 한하여(로그인 필수) 이용 가능
- 구독대학 소속 이용자: RISS 해외전자자료 통합검색 및 등록된 대학IP 대역 내에서 24시간 무료 이용
- 미구독대학 소속 이용자: RISS 해외전자자료 통합검색을 통한 오후 4시~익일 오전 9시 무료 이용
※ 단, EBSCO ASC/BSC(오후 5시~익일 오전 9시 무료 이용)
RISS 인기검색어
검색결과 좁혀 보기
좁혀본 항목 보기순서
오늘 본 자료
Stringent doxycycline-dependent control of gene activities using an episomal one-vector system
Bornkamm, G. W., Berens, C., Kuklik-Roos, C., Bech Oxford University Press 2005 Nucleic acids research Vol.33 No.16
Atomic layer epitaxy growth of aluminum oxide thin films from a novel Al(CH~3)~2Cl precursor and H~2O
Kukli, K. SLACK INCORPORATED 1997 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.15 No.4
Atomic Layer Epitaxy Growth of Tantalum Oxide Thin Films from Ta(OC~2H~5)~5 and H~2O
Kukli, K. ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 1995 Journal of the Electrochemical Society Vol.142 No.5
Atomic layer deposition of zirconium oxide from zirconium tetraiodide, water and hydrogen peroxide
Kukli, K. ELSEVIER SCIENCE DIVISION 2001 Journal of crystal growth Vol.231 No.1-2
Deposition of lanthanum sulfide thin films by atomic layer epitaxy
Kukli, K. ELSEVIER 1998 Journal of Alloys and Compounds Vol.275-277 No.1-2
Development of Dielectric Properties of Niobium Oxide, Tantalum Oxide, and Aluminum Oxide Based Nanolayered Materials
Kukli, K. ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 2001 Journal of the Electrochemical Society Vol.148 No.2
In situ study of atomic layer epitaxy growth of tantalum oxide thin films from Ta(OC~2H~5)~5 and H~2O
Kukli, K. ELSEVIER SCIENCE PUBLISHERS 1997 Applied Surface Science Vol.112 No.-
Properties of Ta~2O~5-Based Dielectric Nanolaminates Deposited by Atomic Layer Epitaxy
Kukli, K. unknown 1997 Journal of the Electrochemical Society Vol.144 No.1
Influence of atomic layer deposition parameters on the phase content of Ta2O5 films
Kukli, K. ELSEVIER SCIENCE DIVISION 2000 Journal of crystal growth Vol.212 No.3-4
HiK2_1 Invited: Atomic layer deposition chemistry, mechanisms and related physical properties of high permittivity dielectric oxides
Kukli, K. Business Center for Academic Societies 2003 EXTENDED ABSTRACTS OF THE INTERNATIONAL WORKSHOP O Vol.- No.-
이 검색어로 많이 본 자료
활용도 높은 자료