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Klimecky, P. I., Grizzle, J. W., Terry, F. L. SLACK INCORPORATED 2003 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.21 No.3
A multi-sensor study of Cl2 etching of polycrystalline Si
Klimecky, P. I., Terry, F. L. John Wiley & Sons, Ltd 2008 Physica Status Solidi C Vol.5 No.5
Real-Time Data Acquisition and Feedback Control Solution for Industrial Plasma Reactors
Klimecky, P., Schweiger, D., Grizzle, J. Electrochemical Society 1999 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.- No.1
Real-Time Reactive Ion Etch Metrology Techniques to Enable In Situ Response Surface Process Characterization
Klimecky, P. ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 2001 Journal of the Electrochemical Society Vol.148 No.1
In situ measurements of HCl during plasma etching of poly-silicon using a diode laser absorption sensor
Kim, S., Klimecky, P., Jeffries, J. B., Terry, F. IOP PUBLISHING LTD 2003 Measurement science & technology Vol.14 No.9
Diode laser sensor to monitor HCl in a plasma etch reactor [4817-14]
Kim, S., Klimecky, P., Chou, S.-I., Jeffries, J. B International Society for Optical Engineering; 1999 2002 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.- No.4817
A Highly Accurate Endpoint Method for a TFT Back-Channel Recess Etch
Vincent, T. L., Klimecky, P. I., Sun, W., Khargone SID 1997 International Display Research Conference. Confere Vol.9 No.-
In Situ Design of Experiments for a Reactive Ion Etching Process
Galarza, C. G.,Klimecky, P.,Khargonekar, P. P.,Ter Materials Research Society 1999 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.569 No.-
Hyperlipidemia affects multiscale structure and strength of murine femur
Ascenzi, M. G., Lutz, A., Du, X., Klimecky, L., Ka Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 Journal of biomechanics Vol.47 No.10
In-Situ Real-Time Spectroscopic Ellipsometry Measurements on a LAM TCP 9400SE
Stutzman, B. S., Park, H.-M., Klimecky, P., Garvin Electrochemical Society 1999 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.- No.1
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