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Remote plasma etching of silicon nitride and silicon dioxide using NF~3/O~2 gas mixtures
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Kastenmeier, Maximilian AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 2023 The Journal of Physical Chemistry Part C Vol.127 No.12
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Kastenmeier, Andrew S., Redlich, Philip N., Fihn, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 The American Journal of Surgery Vol.216 No.1
Surface etching mechanism of silicon nitride in fluorine and nitric oxide containing plasmas
Kastenmeier, B. E. E. SLACK INCORPORATED 2001 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.19 No.1
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Kastenmeier, B. E. E. 00 1996 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.14 No.5
Robotic Applications in the Treatment of Diseases of the Esophagus
Kastenmeier, A., Gonzales, H., Gould, J.C. LIPPINCOTT, WILLIAMS & WILIKINS 2012 Surgical Laparoscopy, Endoscopy and Percutaneous T Vol.22 No.4
Splenic Injury During Colon Surgery: A Matter of Technique?
Kastenmeier, A., Ludwig, K.A. American Medical Association 2012 JAMA Surgery Vol.147 No.4
Gas utilization in remote plasma cleaning and stripping applications
Kastenmeier, B. E. E. SLACK INCORPORATED 2000 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.18 No.5
The Evolution of Resource Utilization in Regional Burn Centers
Kastenmeier, A., Faraklas, I., Cochran, A., Pham, LIPPINCOTT WILLIAMS & WILKINS 2010 Journal of Burn Care & Research Vol.31 No.1
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