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High quality SiGe electronic material grown by low energy plasma enhanced chemical vapour deposition
Chrastina, D., Isella, G., Rossner, B., Bollani, M Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2004 Thin Solid Films Vol.459 No.1-2
Patterning-induced strain relief in single lithographic SiGe nanostructures studied by nanobeam x-ray diffraction
Chrastina, D., Vanacore, G.M., Bollani, M., Boye, Institute of Physics; 1999 2012 Nanotechnology Vol.23 No.15
Comment on "Smooth relaxed Si~0~.~7~5Ge~0~.~2~5 layers on Si(001) via in situ rapid thermal annealing" [Appl. Phys. Lett. 83, 4321 (2003)]
Chrastina, D. AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2004 Applied Physics Letters Vol.85 No.22
2-D hole gas with two-subband occupation in a strained Ge channel: Scattering mechanisms
Rössner, B., von Känel, H., Chrastina, D., Isella, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2006 Thin Solid Films Vol.508 No.1-2
Ge/SiGe superlattices for nanostructured thermoelectric modules
Chrastina, D., Cecchi, S., Hague, J. P., Frigerio, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2013 Thin Solid Films Vol.543 No.-
Application of Bryan's algorithm to the mobility spectrum analysis of semiconductor devices
Chrastina, D., Hague, J. P., Leadley, D. R. AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2003 Journal of Applied Physics Vol.94 No.10
Thin relaxed SiGe virtual substrates grown by low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposition
Chrastina, D., Isella, G., Bollani, M., Rossner, B Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2005 Journal of crystal growth Vol.281 No.2-4
INSTRUCTOR OF SPATIAL ORIENTATION AS ONE OF THE DETERMINANTS OF SUCCESSFUL INCLUSION OF PEOPLE WITH VISUAL IMPAIRMENT IN THE CZECH REPUBLIC
Finkova, D., Chrastina, J., Fink, M. Sofia, Bulgaria; STEF92 Technology Ltd. 2014 INTERNATIONAL MULTIDISCIPLINARY SCIENTIFIC GEOCONF Vol.14 No.1
Antiaggregation and anticoagulation therapy in patients operated on for chronic subdural haematoma as related to pre-surgical status and surgical outcome
Hrabovsky, D., Chrastina, J., Feitova, V., Zvarova UNKNOWN 2014 ROZHLEDY V CHIRURGII Vol.93 No.11
Plasma Composition by Mass Spectrometry in a Ar-SiH4-H2 LEPECVD Process During nc-Si Deposition
Moiseev, T., Chrastina, D., Isella, G. Springer Science + Business Media 2011 Plasma chemistry and plasma processing Vol.31 No.1
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