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Challali, F., Besland, M. P., Benzeggouta, D., Bor Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2010 Thin Solid Films Vol.518 No.16
Effect of RF sputtering power and vacuum annealing on the properties of AZO thin films prepared from ceramic target in confocal configuration
Challali, Fatiha, Mendil, Djelloul, Touam, Tahar, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2020 MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING Vol.118 No.-
Comprehensive characterization of Al-doped ZnO thin films deposited in confocal radio frequency magnetron co-sputtering
Challali, Fatiha Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2023 Thin Solid Films Vol.780 No.-
Almost automorphy and various extensions for stochastic processes
Bedouhene, F., Challali, N., Mellah, O., Raynaud d Elsevier Science B.V., Amsterdam 2015 Journal of mathematical analysis and applications Vol.429 No.2
Passive Components Integration in CMOS Technology
Salimy, S., Challali, F., Goullet, A., Besland, M. Piscataway; IEEE 2010 ESSDERC -CONFERENCE- Vol.- No.-
Thin films of binary amorphous Zn-Zr alloys developed by magnetron co-sputtering for the production of degradable coronary stents: A preliminary study
Annonay, Nathalie, Challali, Fatiha, Labour, Marie Elsevier Science B.V., Amsterdam 2018 Bioactive materials Vol.3 No.4
Large area silicon epitaxy using pulsed DC magnetron sputtering deposition
Plantin, P., Challali, F., Carriot, O., Lainat, F. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2008 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.85 No.3
Preparation of RF sputtered AZO/Cu
Mendil, Djelloul, Challali, Fatiha, Touam, Tahar, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2021 Journal of Alloys and Compounds Vol.860 No.-
AZO thin films grown by confocal RF sputtering: role of deposition time on microstructural, optical, luminescence and electronic properties
M. Mohamedi , F. Challali , T. Touam , A. Chelouch Chapman and Hall 2021 Journal of materials science Materials in electron Vol.32 No.20
Dielectric relaxation study of amorphous TiTaO thin films in a large operating temperature range (5 pages)
Rouahi, A., Kahouli, A., Challali, F., Besland, M. AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2012 Journal of Applied Physics Vol.112 No.9
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