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On the relation between low-temperature epitaxial growth conditions and the surface morphology of epitaxial Si and Si~1~-~xGe~x layers, grown in an ultrahigh vacuum, very low pressure chemical vapour deposition reactor
Caymax, M. ELSEVIER SEQUOIA SA 1994 Thin Solid Films Vol.241 No.1-2
Issues, Achievements and Challenges Towards Integration of High-k Dielectrics
Caymax, M., De Gendt, S., Vandervorst, W., Heyns, WORLD SCIENTIFIC 2002 Selected Topics in Electronics and Systems Vol.26 No.-
Interface control of high-k gate dielectrics on Ge
Caymax, M., Houssa, M., Pourtois, G., Bellenger, F Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2008 Applied Surface Science Vol.254 No.19
UHV-VLPCVD Heteroepitaxial Growth of Thin SiGe-Layers on Si Substrates: Influence of Pressure on Kinetics and on Surface-Morphology
Caymax, M. R.,Poortmans, J.,Van Ammel, A. Sci-tech Publications 1993 Diffusion and defect data, solid state data. Solid Vol.32-33 No.-
Electrical Evaluation of the Epi/Substrate Interface Quality after Different in-situ and ex-situ Low-Temperature Pre-Epi Cleaning Methods
Caymax, M. SCI TECH PUBLICATIONS LTD 1998 Diffusion and defect data, solid state data. Solid Vol.65-66 No.-
The Influence of the Epitaxial Growth Process Parameters on Layer Characteristics and Device Performance in Si-Passivated Ge pMOSFETs
Caymax, M., Leys, F., Mitard, J., Martens, K., Yan ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 2009 Journal of the Electrochemical Society Vol.156 No.12
The importance of H-passivation for low-temperature APCVD silicon epitaxy
Caymax, M.,Mouche, M.-J.,Bender, H.,Storm, W. Acco 1996 PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON ULTR Vol.3 No.-
Low temperature selective growth of epitaxial Si and Si~1~-~xGe~x layers from SiH~4 and GeH~4 in an ultrahigh vacuum, very low pressure chemical vapour deposition reactor: kinetics and possibilities
Caymax, M.,Poortmans, J.,Van Ammel, A.,Libezny, M. Elsevier 1994 Thin Solid Films Vol.241 No.1-2
Gate Stack Preparation with High-K Materials in a Cluster Tool
Caymax, M. IEEE 2001 IEEE INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR MANU Vol.- No.-
Preparation and Characterization of Rare Rarth Scandate Thin Films as an Alternative Gate Dielectric
Caymax, M., Heeg, T., Lenk, S., Mantl, S., Schuber Warrendale, Pa.; Materials Research Society; 1999 2006 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.917 No.-
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