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Recent Trends in Optical Lithography
Rothschild, M., Bloomstein, T. M., Fedynyshyn, T. LINCOLN LABORATORY M I.T 2003 LINCOLN LABORATORY JOURNAL Vol.14 No.2
Critical issues in 157 nm lithography
Bloomstein, T. M., Rothschild, M., Kunz, R. R., Ha American Institute of Physics 1998 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.16 No.6
Optical materials and coatings at 157 nm
Bloomstein, T. M., Liberman, V., Rothschild, M., H SPIE 1999 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.3676 No.1
Lithography with 157 nm lasers
Bloomstein, T. M.,Horn, M. W.,Rothschild, M.,Kunz, AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing 1997 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.15 No.6
Laser‐chemical three‐dimensional writing for microelectromechanics and application to standard‐cell microfluidics
Bloomstein, T. M.Ehrlich, D. J. AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing 1992 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.10 No.6
Immersion patterning down to 27 nm half pitch
Bloomstein, T. M., Fedynyshyn, T. H., Pottebaum, I American Vacuum Society; 1999 2006 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.24 No.6
Direct patterning of spin-on glass with 157 nm lithography: Application to nanoscale crystal growth
Bloomstein, T. M., Juodawlkis, P. W., Swint, R. B. American Vacuum Society; 1999 2005 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.23 No.6
Laser Stereo Micromachining at One-Half Million Cubic Micrometers Per Second
Bloomstein, T. M.,Ehrlich, D. J. Transducers Research Foundation 1994 SOLID STATE SENSOR AND ACTUATOR WORKSHOP Vol.6 No.-
Stereolithographic patterning of diazonaphthoquinone/novolac photoresist
Bloomstein, T. M., Palmacci, S. T., Kunz, R. R., R SPIE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING 2004 Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Vol.3 No.2
Laser-Chemical 3-D Micromachining
Bloomstein, T. M. MATERIALS RESEARCH SOCIETY 1993 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.282 No.-
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