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Arvet, C., Chiaroni, J., Brianceau, P., Loup, V., Mentor Communications 2008 PROCEEDINGS OF INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON DRY PROC Vol.2008 No.-
Smoothing transformation and spline collocation for nonlinear fractional initial and boundary value problems
Pedas, Arvet, Tamme, Enn, Vikerpuur, Mikk Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2017 Journal of computational and applied mathematics Vol.317 No.-
Superconvergence of piecewise polynomial collocations for nonlinear weakly singular integral equations.
Pedas, Arvet,Vainikko, Gennadi unknown 1997 The Journal of integral equations and applications Vol.9 No.4
Spline Collocation for Fractional Integro-Differential Equations
Pedas, Arvet, Tamme, Enn, Vikerpuur, Mikk Springer 2014 Lecture Notes in Computer Science Vol.2015 No.9045
Isotropic etching of SiGe alloys with high selectivity to similar materials
Borel, S., Arvet, C., Bilde, J., Harrison, S., Lou Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2004 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.73-74 No.4
Resist Removal Process in Dual Damascene Structure Integrating Cu and SiLK® for 0.18 mum Technology
Louis, D.,Arvet, C.,Lajoinie, E.,Peyne, C.,Lee, S. Elsevier 2000 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.53 No.1-4
Control of Selectivity between SiGe and Si in Isotropic Etching Processes [published June 29, 2004]
Borel, S., Arvet, C., Bilde, J., Caubet, V., Louis Japanese Journal of Applied Physics; 1999 2004 Japanese Journal of Applied Physics Vol.43 No.6B
Impact of Tunnel Etching Process on Electrical Performances of SON Devices
Caubet, V., Borel, S., Arvet, C., Bilde, J., Chane Japanese Journal of Applied Physics; 1999 2005 Japanese Journal of Applied Physics Vol.44 No.7B
Control of selectivity between SiGe and Si in isotropic etching processes
S. Borel, C. Arvet, J. Bilde, V. Caubet, D. Louis Institute of Pure and Applied Physics 2004 Japanese Journal of Applied Physics Vol.43 No.6B
Cleaning status on low-k dielectric in advanced VLSI interconnect: Characterisation and principal issues
Louis, D.,Beverina, A.,Arvet, C.,Lajoinie, E.,Peyn Elsevier 2001 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.57-58 No.-
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