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A new genetic subgroup of chronic granulomatous disease with autosomal recessive mutations in p40^p^h^o^x and selective defects in neutrophil NADPH oxidase activity
Matute, J.D., Arias, A.A., Wright, N.A.M., Wrobel, AMERICAN SOCIETY OF HEMATOLOGY 2009 Blood Vol.114 No.15
Growth Mechanism and Chemical Structure of Amorphous Hydrogenated Silicon Carbide (a-SiC:H) Films Formed by Remote Hydrogen Microwave Plasma CVD From a Triethylsilane Precursor: Part 1
Wrobel, A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Ahola John Wiley & Sons, Ltd 2009 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION -WEINHEIM- Vol.15 No.1-3
Novel 4-aryl-pyrido[1,2-c]pyrimidines with dual SSRI and 5-HT"1"A activity. Part 5
Gomolka, A., Ciesielska, A., Wrobel, M.Z., Chodkow Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2015 European Journal of Medicinal Chemistry Vol.98 No.-
Heat and mass flows coupled with stress in a continuous medium
Wrobel, M. A Pergamon Press 1997 International journal of heat and mass transfer Vol.40 No.1
Plasma chemical vapor deposition of a-C:S:N:H films using organoisothiocyanates as novel single-source precursors
Wrobel, A. M Elsevier Sequoia 1996 Thin Solid Films Vol.289 No.1
Mechanism of polysilazane thin film formation during glow discharge polymerization of hexamethylcyclotrisilazane
A.M. Wrobel, M. Kryszewski, M. Gazicki Butterworth Scientific Ltd. etc. 1976 Polymer Vol.17 No.8
Structure of glow discharge polysilazane thin films
A.M Wrobel, M Kryszewski, M Gazicki Butterworth Scientific Ltd. etc. 1976 Polymer Vol.17 No.8
Remote hydrogen plasma chemical vapor deposition from alkylsilane and alkylcarbosilane single-sources: Mechanism of the process and properties of resulting silicon-carbon deposits
Wrobel, A. M. Les Ulis; EDP Sciences; 1999 2001 The European Physical Journal. Special Topics Vol.11 No.3
Silicon carbonitride thin-film coatings fabricated by remote hydrogen-nitrogen microwave plasma chemical vapor deposition from a single-source precursor: Growth process, structure, and properties of the coatings
Wrobel, A. M., Blaszczyk-Lezak, I., Walkiewicz-Pie John Wiley & Sons, Ltd 2007 Journal of Applied Polymer Science Vol.105 No.1
Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition of Silicon-Carbon Thin-Film Materials from a Hexamethyldisilane Source: Characterization of the Process and the Deposits
Wrobel, A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Klemb WILEY 2002 Journal of Applied Polymer Science Vol.86 No.6
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