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Spatial characterization of an IPVD reactor: neutral gas temperature and interpretation of optical spectroscopy measurements
de Poucques, L., Imbert, J.-C., Boisse-Laporte, C. IOP PUBLISHING 2005 PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY Vol.14 No.2
Diagnostic of a pulsed CH4-H2 plasma to improve microwave plasma assisted chemical vapour deposition process for diamond synthesis
De Poucques, L. ELSEVIER SEQUOIA SA 2001 Surface & Coatings Technology Vol.146-147 No.-
Characterization of a microwave time-afterglow working in CH4-H2-Ar gas mixture (OR.2.104)
de Poucques, L., Henrion, G., Hugon, R., Bougdira, Orleans; GREMI, CNRS 2001 INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PLASMA CHEMISTRY Vol.15 No.2
Comparison of the ionisation efficiency in a microwave and a radio-frequency assisted magnetron discharge
de Poucques, L., Imbert, J. C., Vasina, P., Boisse Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2005 Surface & Coatings Technology Vol.200 No.1-4
Analysis of the Transport of Ionized Titanium Atoms in a Highly Ionized Sputter Deposition Process
de Poucques, L., Imbert, J. C., Boisse-Laporte, C. John Wiley & Sons, Ltd 2007 PLASMA PROCESSES AND POLYMERS Vol.4//SUP1 No.-
Study of the transport of titanium neutrals and ions in the post-discharge of a high power pulsed magnetron sputtering device
de Poucques, L., Imbert, J.-C., Boisse-Laporte, C. IOP PUBLISHING 2006 PLASMA SOURCES SCIENCE AND TECHNOLOGY Vol.15 No.4
Electrical and optical experimental study of Ionized Physical Vapour Deposition (IPVD) processes
de Poucques, L. Prague:; Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, 2006 Czechoslovak Journal of Physics Vol.56 No.8
On the anisotropy and thermalization of the metal sputtered atoms in a low-pressure magnetron discharge
de Poucques, L., Vitelaru, C., Minea, T.M., Bretag EDP Sciences. 2008 Europhysics letters Vol.82 No.1
Time-resolved plasma diagnostics for a better understanding of the improvement of pulsed MWPACVD of diamond
de Poucques, L. IOP PUBLISHING LTD 2001 Journal of Physics. D, Applied Physics Vol.34 No.6
Study of magnetron sputtering assisted by microwave plasma for enhanced metal ionisation
de Poucques, L., Leroy, O., Teule-Gay, L., Boisse- France:; ESCAMPIG Scientific Committee, 2002 ESCAMPIG Vol.16 No.1
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