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Heisig, U. OLDENBOURG 2010 Soziologische Revue Vol.33 No.4
Metallization of ceramics for electronic components by magnetron-plasmatron coating
S. Schiller, U. Heisig, K. Steinfelder, D. Mehr, R Elsevier BV * North-Holland 1980 Thin Solid Films Vol.72 No.2
The role of plasmatron/magnetron systems in physical vapor deposition techniques
S. Schiller, U. Heisig, K. Goedicke Elsevier BV * North-Holland 1978 Thin Solid Films Vol.54 No.1
Methods;applications of plasmatron high rate sputtering in microelectronics; hybrid microelectronics;electronics
S. Schiller, U. Heisig, K. Goedicke, H. Bilz, K. S Elsevier BV * North-Holland 1982 Thin Solid Films Vol.92 No.1-2
On the investigation of d.c. plasmatron discharges by optical emission spectrometry
S. Schiller, U. Heisig, K. Steinfelder, J. StrUmpf Elsevier BV * North-Holland 1982 Thin Solid Films Vol.96 No.3
CrSi resistive films produced by magnetron-plasmatron sputtering
S. Schiller, U. Heisig, K. Steinfelder, Chr. Kornd Elsevier BV * North-Holland 1982 Thin Solid Films Vol.96 No.4
Deposition of hard wear-resistant coatings by reactive D.C. Plasmatron sputtering
S. Schiller, U. Heisig, G. Beister, K. Steinfelder Elsevier BV * North-Holland 1984 Thin Solid Films Vol.118 No.3
Plasmatron sputtering for the production of high stability NiCr resistive films
S. Schiller, U. Heisig, K. Goedicke, H. Bilz, W. D Elsevier BV * North-Holland 1984 Thin Solid Films Vol.119 No.2
Complete thin film system for hybrid circuits sputtered with the plasmatron
S. Schiller, U. Heisig, K. Goedicke, H. Bilz, G. V Elsevier BV * North-Holland 1981 Thin Solid Films Vol.83 No.2
Advances in high rate sputtering with magnetron-plasmatron processing;instrumentation
S. Schiller, U. Heisig, K. Goedicke, K. Schade, J. Elsevier BV * North-Holland 1979 Thin Solid Films Vol.64 No.3
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