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Rhallabi, A. SLACK INCORPORATED 2001 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.19 No.3
2D InP Etching Simulation Under High Density Plasma of Chlorine
Rhallabi, A., Liu, B., Marcos, G., Landesman, J. P Warrendale, Pa.; Materials Research Society; 1999 2004 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.782 No.-
Chemically assisted ion beam etching of GaAs by argon and chlorine gases: Experimental and simulation investigations
Rhallabi, A., Gaillard, M., Elmonser, L., Marcos, American Vacuum Society; 1999 2005 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.23 No.5
Atomic scale study of InP etching by Cl~2-Ar ICP plasma discharge
Rhallabi, A., Chanson, R., Landesman, J.-P., Cardi EDP SCIENCES 2011 EPJ APPLIED PHYSICS Vol.53 No.3
Estimation of surface kinetic parameters and two-dimensional simulation of InP pattern features during CH~4-H~2 plasma etching
Rhallabi, A. SLACK INCORPORATED 2000 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.18 No.4/1
Standard Simulation Framework for Dry Etching and Plasma Deposition
Rhallabi, A., Bakowski, P., Marcos, G., Elmonser, France:; ESCAMPIG Scientific Committee, 2002 ESCAMPIG Vol.16 No.2
Computer simulation of a carbon-deposition plasma in CH/sub 4
A. Rhallabi, Y. Catherine Institute of Electrical and Electronics Engineers 1991 IEEE transactions on plasma science Vol.19 No.2
Monte Carlo simulation method for etching of deep trenches in Si by a SF~6/O~2 plasma mixture
Marcos, G., Rhallabi, A., Ranson, P. SLACK INCORPORATED 2003 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.21 No.1
Global Model of Formula Not Shown High-Density Plasma Discharge and 2-D Monte-Carlo Etching Model of InP
Chanson, R., Rhallabi, A., Fernandez, M. C., Cardi IEEE INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS 2012 IEEE transactions on plasma science Vol.40 No.4
Modelling of fluorine based high density plasma for the etching of silica glasses
Lallement, L., Rhallabi, A., Cardinaud, C., Fernan American Vacuum Society 2011 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.29 No.5
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