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Trajectory-dependent neutralization of 1 keV He ^+ ions scattered from Pb(111) and Pb films on Cu(100)
Platzgummer, E. ELSEVIER 1998 Surface science Vol.412-413 No.-
Charged particle nanopatterning
Platzgummer, E., Loeschner, H. American Vacuum Society; 1999 2009 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.27 No.6
Charged particle multi-beam lithography evaluations for sub-16nm hp mask node fabrication and wafer direct write (Third Place Best Paper Award) [7488-47]
Platzgummer, E., Klein, C., Joechl, P., Loeschner, International Society for Optical Engineering; 1999 2009 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.7488 No.1
Maskless lithography and nanopatterning with electron and ion multibeam projection (Keynote Paper) [7637-02]
Platzgummer, E. International Society for Optical Engineering; 1999 2010 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.7637 No.-
Author: M. Hofer Title: Teaching Manual of Color Duplex Sonography Publisher: Thieme Verlag Published: 2010 Pages: 108 Price: 51,40 ISBN: 978-3-13-127593-6
Platzgummer, H. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2011 European Journal of Radiology Vol.80 No.2
Electron multibeam technology for mask and wafer writing at 0.1 nm address grid
Platzgummer, E., Klein, C., Loeschner, H. International Society for Optical Engineering (SPIE) 2013 Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Vol.12 No.3
Radiologische Frühdiagnostik der rheumatoiden Arthritis
Platzgummer, H., Schüller-Weidekamm, C. Springer Science + Business Media 2012 Der Radiologe Vol.52 No.2
Recommendations for the use of tryptase in the diagnosis of anaphylaxis and clonal mastcell disorders
Platzgummer, S., Bizzaro, N., Bilò, M. B., Pravett UNKNOWN 2020 EUROPEAN ANNALS OF ALLERGY AND CLINICAL IMMUNOLOGY Vol.52 No.2
eMET: 50 keV electron mask exposure tool development based on proven multi-beam projection technology [7823-07]
Platzgummer, E., Cernusca, S., Klein, C., Klikovit International Society for Optical Engineering; 1999 2010 Proceedings of SPIE, the International Society for Vol.7823 No.1
Electron multi-beam technology for mask and wafer writing at 0.1 nm address grid (Keynote Paper) [8680-3]
Platzgummer, E., Klein, C., Loeschner, H. International Society for Optical Engineering; 1999 2013 Proceedings of SPIE, the International Society for Vol.8680 No.-
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