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Material and process effects on line-edge-roughness of photoresists probed with a fast stochastic lithography simulator
Patsis, G. P., Gogolides, E. American Vacuum Society; 1999 2005 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.23 No.4
Effects of Photoresist Polymer Molecular Weight and Acid-Diffusion on Line-Edge Roughness [published August 5, 2005]
Patsis, G. P., Gogolides, E., Van Werden, K. Japanese Journal of Applied Physics; 1999 2005 Japanese Journal of Applied Physics Vol.44 No.8
Stochastic modeling and simulation of photoresist surface and line-edge roughness evolution
Patsis, G. P., Drygiannakis, D., Constantoudis, V. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2010 European polymer journal Vol.46 No.10
Effects of model polymer chain architectures and molecular weight of conventional and chemically amplified photoresists on line-edge roughness. Stochastic simulations
Patsis, G. P., Gogolides, E. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2006 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.83 No.4-9
Material origins of line-edge roughness: Monte Carlo simulations and scaling analysis [5376-96]
Patsis, G. P., Constantoudis, V., Gogolides, E. International Society for Optical Engineering; 1999 2004 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.5376 No.2
Orbital Morphology of 3D Bars
Patsis, P. A. ASP; 1999 2002 Astronomical Society of the Pacific Conference Ser Vol.275 No.-
Interarm Features in Normal Spiral Galaxies: SPH Models
Patsis, P. A., Hiotelis, N. Italian Astronomical Society 1993 Memorie della Societa Astronomica Italiana Vol.65 No.4
SPH Simulations of the Gas Flow in Normal Spiral Galaxies
Patsis, P. A., Hiotelis, N. Springer-Verlag 1993 LECTURE NOTES IN PHYSICS -NEW YORK THEN BERLIN- Vol.- No.430
Edge-on boxy profiles in non-barred disc galaxies
Patsis, P. A., Athanassoula, E., Grosbol, P., Skok BLACKWELL SCIENTIFIC PUBLICATIONS 2002 MONTHLY NOTICES- ROYAL ASTRONOMICAL SOCIETY Vol.335 No.4
Electron-beam lithography simulation for the fabrication of EUV masks
Patsis, G. P., Tsikrikas, N., Raptis, I., Glezos, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2006 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.83 No.4-9
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