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Oehrlein, G. S International Business Machines Corp 1999 IBM journal of research and development Vol.43 No.1-2
Nanoscale layer etching by short-time exposure of substrates to gas discharges using moving patterned shutter
Oehrlein, G. S., Hua, X., Stolz, C., Jiang, P. American Vacuum Society; 1999 2006 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.24 No.1
(Invited) Materials Selectivity in Atomic Layer Etching of SiO~2, Si, Si~3N~4 Using Plasma Process Sequences
Oehrlein, Gottlieb S. Electrochemical Society 2017 Meeting Abstracts- Electrochemical Society Vol.2017 No.232
Sidewall surface chemistry in directional etching processes
Oehrlein, G. S. ELSEVIER SCIENCE S.A. 1998 Materials Science and Engineering R Vol.24 No.4
A Study of the Fluorocarbon Film Suppression Regime inSiO~2 High-Density Plasma Etching
Oehrlein, G. S., Zhang, Y., Joubert, O. Electrochemical Society 1993 EXTENDED ABSTRACTS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY -ALL D Vol.- No.1
A Comparison Of Key Components Of The Hta Core Model And The Amcp Format
Oehrlein, E., Hanna, M., Perfetto, E. Elsevier Science B.V., Amsterdam 2015 Value in Health Vol.18 No.7
Effect of extending conjugation via thiophene-based oligomers on the excited state electron transfer rates to ZnO nanocrystals
Oehrlein, Amanda N., Sanchez-Diaz, Antonio, Goff, Royal Society of Chemistry 2019 Physical Chemistry Chemical Physics Vol.21 No.13
Which Molten Aluminum Transfer System Is Right for You?
Oehrlein, R., Hall, J. AMERICAN FOUNDRYMEN'S SOCIETY INC 2012 Modern casting Vol.102 No.8
National Trends in ADHD Diagnosis and Treatment: Comparison of Youth and Adult Office-Based Visits
Oehrlein, Elisabeth M. AMERICAN PSYCHIATRIC ASSOCIATION 2016 Psychiatric services Vol.67 No.9
Plasma-polymer interactions: A review of progress in understanding polymer resist mask durability during plasma etching for nanoscale fabrication
Oehrlein, G.S., Phaneuf, R.J., Graves, D.B. American Vacuum Society; 1999 2011 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.29 No.1
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