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Extended process window using variable transmission PSM materials for 65 nm and 45 nm node [6283-120]
Koepernik, C., Becker, H., Birkner, R., Buttgereit International Society for Optical Engineering; 1999 2006 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.6283 No.1
Patterning of Ta/SiO~2 high transmission EAPSM material for 193nm technology [5853-26]
Koepernik, C., Becker, H. W., Butschke, J., Buttge International Society for Optical Engineering; 1999 2005 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.5853 No.1
Influence of nonideal chopper design on nonuniformity in uncooled pyroelectric staring array systems [2552-64]
Koepernik, J.,Budzier, H.,Hofmann, G. SPIE 1995 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.- No.2552--2
Informationsgehalt der Signale von passiven Infrarot-Bewegungsmeldern mit Mehrelementsensoren
Koepernik, J., Zimmerhackl, M., Rosch, R., Zapp, R Technische Universitat Dresden 1994 WISSENSCHAFTLICHE ZEITSCHRIFT- TECHNISCHEN UNIVERS Vol.43 No.6
Mask patterning using chemically amplified resists and the novel STEAG HamaTech blank coater ASR5000 [4889-78]
Koepernik, C., Beyer, D., Dress, P., Hoffmann, T. International Society for Optical Engineering; 1999 2002 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.- No.4889/1
Influence of non-ideal chopper design on nonuniformity in uncooled pyroelectric staring array systems [2552-64]
Koepernik, J. SPIE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL 1995 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.- No.2552/2
Self-consistent LCAO-CPA method for disordered alloys
Koepernik, K. AMERICAN PHYSICAL SOCIETY 1997 Physical Review B Vol.55 No.9
Symmetry-conserving maximally projected Wannier functions (29 pages)
Koepernik, K. AMERICAN PHYSICAL SOCIETY 2023 Physical Review B Vol.107 No.23
Surface Adatom Conductance Filtering in Scanning Tunneling Spectroscopy of Co-doped BaFe~2As~2 Iron Pnictide Superconductors
Koepernik, K., Johnston, S., van Heumen, E., Huang AMERICAN PHYSICAL SOCIETY 2012 Physical Review Letters Vol.109 No.12
Alternating aperture phase shift mask process using e-beam lithography for the second level [5446-30]
Koepernik, C., Butschke, J., Beyer, D., Irmscher, International Society for Optical Engineering; 1999 2004 Progress in Biomedical Optics and Imaging Vol.5446 No.1
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