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Kholodkov, I. V., Kholodkova, N. V., Smirnov, S. A Springer Science + Business Media 2016 High Temperature Vol.54 No.5
Stereoregular cyclic p-tolyl-siloxanes with alkyl, O- and N-containing groups as promising reagents for the synthesis of functionalized organosiloxanesElectronic supplementary information (ESI) available. CCDC 2069758. For ESI and crystallographic data in CIF or other electronic format see DOI: 10.1039/d1nj01222c
Kholodkov, Dmitry N., Eremchuk, Kseniia I., Soldat Royal Society of Chemistry 2021 New Journal of Chemistry Vol.45 No.22
Effect of Bacillus cereus hemolysin II on hepatocyte cells
Kholodkov, O. A., Budarina, Z. I., Andreeva-Kovale Springer Science + Business Media 2015 Applied Biochemistry and Microbiology Vol.51 No.2
Peculiarities of Er3+ photoluminescence in halogen-doped amorphous silica
Kholodkov, A. V., Golant, K. M., Iskhakova, L. D. SPRINGER SCIENCE + BUSINESS MEDIA 2009 PHYSICS OF WAVE PHENOMENA Vol.17 No.3
Stereoregular cyclic p-tolyl-containing siloxanes as promising reagents for synthesizing functionalized organosiloxanes
Kholodkov, Dmitry N., Anisimov, Anton A., Zimovets Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2020 Journal of organometallic chemistry Vol.914 No.-
Er^3^+ Ion Photoluminescence in Silicate Glasses Obtained by Plasma-Chemical Deposition in a Low-Pressure Microwave Discharge
Kholodkov, A. V., Golant, K. M. AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2005 TECHNICAL PHYSICS C/C OF ZHURNAL TEKHNICHESKOI FIZ Vol.50 No.6
Er3+ ions luminescence in non-fused silicate glasses fabricated by SPCVD
Kholodkov, A. V., Golant, K. M. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2005 Optical materials Vol.27 No.6
HEAVILY ERBIUM-DOPED SILICA GLASSES FABRICATED BY SPCVD FOR APPLICATION IN OPTOELECTRONICS
Kholodkov, A. V., Golant, K. M. Tokyo:; The Ceramic Society of Japan, 2004 INTERNATIONAL CONGRESS ON GLASS Vol.20 No.-
Experience on deploying a grid infrastructure for the support of computational web services
Kholodkov, K. I., Alshin, I. M., Koryagin, V. N., SPRINGER SCIENCE + BUSINESS MEDIA 2012 SCIENTIFIC AND TECHNICAL INFORMATION PROCESSING C/ Vol.39 No.2
Nano-scale compositional lamination of doped silica glass deposited in surface discharge plasma of SPCVD technology
Kholodkov, A. V., Golant, K. M., Nikolin, I. V. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2003 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.69 No.2-4
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