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Compositional and structural analysis of aluminum oxide films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Yong-Chun Kim, Hyung-Ho Park, John S. Chun, Won-Jo Elsevier BV * North-Holland 1994 Thin Solid Films Vol.237 No.1-2
Effects of Amorphous Silicon Capping Layer on Arsenic Redistribution During TiSi₂Formation
Kang, S. W.,Chun, John S.,Park, S. C. American Institute of Physics 1989 Applied Physics Letters Vol.54 No.8
Formation;growth of an η layer in the chemical vapour deposition of TiC onto cemented carbides
C.W. Lee, John S. Chun, D.Y. Oh Elsevier BV * North-Holland 1981 Thin Solid Films Vol.86 No.1
The effect of ultrasonic vibration on hard chromium plating in a modified self-regulating high speed bath
E. Namgoong, John S. Chun Elsevier BV * North-Holland 1984 Thin Solid Films Vol.120 No.2
A phenomenological study of the nucleation;growth of chemically vapour-deposited TiC coatings on cemented carbide
C.W. Lee, S.W. Nam, John S. Chun Elsevier BV * North-Holland 1981 Thin Solid Films Vol.86 No.1
The effect of reactant gas composition on the plasmaenhanced chemical vapour deposition of TiN
Dong Hoon Jang, John S. Chun, Jae Gon Kim Elsevier BV * North-Holland 1989 Thin Solid Films Vol.169 No.1
The adhesion of low pressure chemically vapour deposited tungsten films on silicon and SiO2 for SiH4H2WF6 and H2WF6 processes
Y.W. Park, C.O. Park, John S. Chun Elsevier BV * North-Holland 1991 Thin Solid Films Vol.201 No.1
Properties of aluminium oxide films prepared by plasma-enhanced metal-organic chemical vapour deposition
Chang Jin Kang, John S. Chun, Wong Jong Lee Elsevier BV * North-Holland 1990 Thin Solid Films Vol.189 No.1
Transport phenomena analysis for boron CVD in a horizontal cold-wall reactor
Chul Soon Park, John S. Chun North-Holland Pub. Co 1987 Journal of crystal growth Vol.80 No.2
Effect of partial pressure of the reactant gas on the chemical vapour deposition of Al2O3
Jae-Gon Kim, Chul-Soon Park, John S. Chun Elsevier BV * North-Holland 1982 Thin Solid Films Vol.97 No.1
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