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Three-step mechanism of the water recombination reactions on SiO2/Si surface in the first stage of ZrO2 atomic layer deposition
Jeloaica, L., Est??ve, A., Dkhissi, A., Est??ve, D Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2005 Computational Materials Science Vol.33 No.1-3
Density functional theory study of HfCl~4, ZrCl~4, and Al(CH~3)~3 decomposition on hydroxylated SiO~2: Initial stage of high-k atomic layer deposition
Jeloaica, L., Esteve, A., Rouhani, M. D., Esteve, AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2003 Applied Physics Letters Vol.83 No.3
Thermodynamic Properties of Trialkali (Li, Na, K) Hexa-alanates: A Combined DFT and Experimental Study
Jeloaica, L., Zhang, J., Cuevas, F., Latroche, M. AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 2008 The Journal of Physical Chemistry Part C Vol.112 No.47
DFT investigation of the adsorption of atomic hydrogen on a cluster-model graphite surface
Jeloaica, L. ELSEVIER SCIENCE DIVISION 1999 Chemical Physics Letters Vol.300 No.1-2
Atomic Scale Modeling of ZrO~2 and HfO~2 Atomic Layer Deposition on Silicon: Linking Density Functional Theory and Kinetic Monte Carlo
Esteve, A., Jeloaica, L., Mazaleyrat, G., Dkhissi, Warrendale, Pa.; Materials Research Society; 1999 2004 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.786 No.3
Esteve, A., Jeloaica, L., Mazaleyrat, G., Dkhissi, Warrendale, Pa.:; Materials Research Society, 2004 Materials Research Society Symposium Proceedings Vol.786 No.-
Grafting of chains organo-silane on silica surface: a quantum chemical investigation
Dkhissi, A., Est챔ve, A., Jeloaica, L., Est챔ve, D. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2004 Chemical Physics Letters Vol.400 No.4-6
Substrate size effects in the modeling of molecular grafting: Case of organo-silane chains on silica
Dkhissi, A., Estève, A., Jeloaica, L., Rouhani, M. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2006 Chemical Physics Vol.323 No.2-3
Self-Assembled Monolayers and Preorganization of Organosilanes Prior to Surface Grafting onto Silica: A Quantum Mechanical Study
Dkhissi, A., Esteve, A., Jeloaica, L., Esteve, D. ACS AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 2005 Journal of the American Chemical Society Vol.127 No.27
A methodology for the kinetic Monte Carlo simulation of alumina atomic layer deposition onto silicon
Mazaleyrat, G., Est??ve, A., Jeloaica, L., Djafari Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2005 Computational Materials Science Vol.33 No.1-3
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