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High frequency C-V investigation of metal-oxide-semiconductor capacitors prepared by low temperature subatmospheric pressure chemical vapour deposition of SiO2 films on silicon substrates
C. Pavelescu, J.P. McVittie, C. Chang, K.C. Sarasw Elsevier BV * North-Holland 1992 Thin Solid Films Vol.217 No.1-2
Bladder hydrodistension in patients with refractory interstitial cystitis
Pavelescu, C., Surcel, C., Mirvald, C., Stoica, R. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 EUROPEAN UROLOGY -SUPPLEMENTS- Vol.17 No.12
A study of the properties of low temperature chemically vapour deposited phosphosilicate glass films
C. Pavelescu, C. Cobianu, N. Vlahovici, C. Ghita Elsevier BV * North-Holland 1988 Thin Solid Films Vol.161 No.-
Management of oligo-recurrent prostate cancer: Is salvage super extended pelvic lymphadenectomy an option?
Surcel, C., Mirvald, C., Mihai, V., Pavelescu, C. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2015 EUROPEAN UROLOGY -SUPPLEMENTS- Vol.14 No.6
Risk of malignancy in complex cystic renal masses (Bosniak category III-IV)
Mirvald, C., Pavelescu, C., Surcel, C., Mihai, V. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2016 EUROPEAN UROLOGY -SUPPLEMENTS- Vol.15 No.11
Influence of the phosphorous precursors on the structure and properties of the SiO~2-P~2O~5 sol-gel films
Vasiliu, C., Grigorescu, C., Pavelescu, G., Predoa INOE & INFM 2007 JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS Vol.9 No.5
Silane oxidation study: Analysis of data for SiO2 films deposited by low temperature chemical vapour deposition
C. Cobianu, C. Pavelescu Elsevier BV * North-Holland 1984 Thin Solid Films Vol.117 No.3
Etch rate behaviour of SiO2 films chemically vapour deposited from silane, oxygen and nitrogen gas mixtures at low temperatures
C. Pavelescu, C. Cobianu, L. Condriuc, E. Segal Elsevier BV * North-Holland 1984 Thin Solid Films Vol.114 No.3
Efficiency of the SiH4 oxidation reaction in chemical vapour deposition of SiO2 films at low temperature
C. Cobianu, C. Pavelescu Elsevier BV * North-Holland 1983 Thin Solid Films Vol.102 No.4
Etch rate behaviour of phosphosilicate glass films chemically vapour deposited in the SiH4PH3O2N2 system at low temperature
C. Pavelescu, C. Cobianu Elsevier BV * North-Holland 1991 Thin Solid Films Vol.196 No.2
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