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Electrical characteristics of ALD-deposited Al2O3 thin films on p-type germanium substrates
Botzakaki, M., Kerasidou, A., Xanthopoulos, N., Sk John Wiley & Sons, Ltd 2013 Physica Status Solidi C Vol.10 No.1
Interfacial Characterization and Transport Conduction Mechanisms in Al|HfO2|p-Ge Structures: Energy Band Diagram
Botzakaki, M. A. Springer Nature 2020 Semiconductors Vol.54 No.5
ALD deposited ZrO2 ultrathin layers on Si and Ge substrates: A multiple technique characterization
Botzakaki, M. A., Xanthopoulos, N., Makarona, E., Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2013 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.112 No.-
Interfacial Properties of ALD-Deposited Al2O3/p-Type Germanium MOS Structures: Influence of Oxidized Ge Interfacial Layer Dependent on Al2O3 Thickness
M. Botzakaki, A. Kerasidou, L. Sygellou, V. Ioanno ELECTROCHEMICAL SOCIETY INC 2012 ECS Solid State Letters Vol.1 No.2
Probing the properties of atomic layer deposited ZrO~2 films on p-Germanium substrates
Kerasidou, A.P., Botzakaki, M.A., Xanthopoulos, N. American Vacuum Society 2013 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.31 No.1
Kerasidou, A.P., Botzakaki, M.A., Xanthopoulos, N. American Vacuum Society 2013 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.31 No.2
Controllable growth of stable germanium dioxide ultra-thin layer by means of capacitively driven radio frequency discharge
Svarnas, P., Botzakaki, M. A., Skoulatakis, G., Ke Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2016 Thin Solid Films Vol.599 No.-
Improved Stability of Polymer Solar Cells in Ambient Air via Atomic Layer Deposition of Ultrathin Dielectric Layers
Polydorou, E., Botzakaki, M. A., Sakellis, I., Sou John Wiley & Sons 2017 Advanced Materials Interfaces Vol.4 No.18
Insights into the passivation effect of atomic layer deposited hafnium oxide for efficiency and stability enhancement in organic solar cells
Polydorou, E., Botzakaki, M., Drivas, C., Seintis, Royal Society of Chemistry 2018 Journal of Materials Chemistry C Vol.6 No.30
Growth of ZnO nanowires on seeding layers deposited by ALD: The influence of process parameters
Kerasidou, A.P., Bardakas, A., Botzakaki, M., Geor Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2019 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.217 No.-
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