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Complex photosensitivity observed in germanosilica planar waveguides
Bazylenko, M. V Optical Society of America 1998 Optics letters Vol.23 No.9
Effect of Reactive Ion Etching-Generated Sidewall Roughness on Propagation Loss of Buried-Channel Silica Waveguides
Bazylenko, M. V.,Gross, M.,Faith, M. American Institute of Physics 1996 Applied Physics Letters Vol.69 No.15
Photosensitivity of Ge-doped silica deposited by hollow cathode PECVD
Bazylenko, M. V [Institution of Electrical Engineers] 1996 Electronics Letters Vol.32 No.13
Mechanisms of UV-induced refractive index changes in PECVD silica
Bazylenko, M. V., Gross, M., Chu, P. L., Moss, D. Optical Society of America 1995 TECHNICAL DIGEST SERIES- OPTICAL SOCIETY OF AMERIC Vol.6 No.-
Bazylenko, M. V. IEE 1996 Electronics Letters Vol.32 No.13
Fabrication of Light-Turning Mirrors in Buried-Channel Silica Waveguides for Monolithic and Hybrid Integration
Bazylenko, M. V. 00 1997 Journal of Lightwave Technology Vol.15 No.1
Fabrication of Low-Temperature PECVD Channel Waveguides with Significantly Improved Loss in the 1.50-1.55-� Wavelength Range
Bazylenko, M. V. IEEE INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS 1995 IEEE Photonics Technology Letters Vol.7 No.7
Reactive ion etching of silica structures for integrated optics applications
Bazylenko, M. V. 00 1996 Journal of Vacuum Science & Technology. A Vol.14 No.6
The Effect of Reactive Ion Etching - Generated Sidewall Roughness on the Propagation Loss of Burled-Channel Silica Waveguides
Bazylenko, M. V., Gross, M., Faith, M. IREE Society 1996 AUSTRALIAN CONFERENCE ON OPTICAL FIBRE TECHNOLOGY Vol.21 No.-
Pure and fluorine‐doped silica films deposited in a hollow cathode reactor for integrated optic applications
Bazylenko, M. V.,Gross, M.,Simonian, A.Chu, P. L. AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing 1996 Journal of Vacuum Science & Technology A Vol.14 No.2
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