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WCl_6-EtAlCl_2 촉매에 의한 폴리(페닐아세틸렌)의 합성과 전자-광 및 전기화학적 특성연구
제갈영순,진성호,장상희,임권택 한국화상학회 2011 한국화상학회지 Vol.17 No.3
WCl_6-EtAlCl_2촉매계를 이용하여 비교적 큰 분자량을 갖는 폴리(페닐아세틸렌)을 합성하였다. 중합반응이 잘 진행되었으며 중합수율은 81%였다. 합성한 폴리(페닐아세틸렌) 분자구조를 NMR (^1H-,^13C-),IR,UV-visible,원소분석 등으로 분석한 결과 페닐 치환기를 갖는 공액구조 고분자가 합성되었음을 확인할 수 있었다. 아울러 332 nm의 빛으로 여기시킬 경우 PL 최대 peak는 424 nm에서 관찰되었는데, 이는 2.93 eV의 광 에너지에 해당한다. 이 고분자의 순환 전압전류 그림은 도핑과 탈도핑사이에서 비가역적인 전기화학적 거동을 보여주었다. 이 고분자의 전기화학적 과정이 매우 안정하였으며, 스캔속도에 따른 산화전류밀도 실험으로부터 이 고분자의 산화-환원 과정은 확산-제어과정에 따르는 것으로 분석되었다. Poly(phenylacetylene) with relatively high molecular weight was prepared by using WCl_6-EtAlCl_2catalystsystem.This polymerization proceeded well in the mild reaction condition to give a high yield of polymer (polymer yield: 81 %). The chemical structure of poly(phenylacetylene) was characterized by such instrumental methods as NMR (^1H-,^13C-),IR,UV-visiblespectroscopies,andelementalanalysistohavetheconjugatedpolymerbackbonebearingphenylsubstituents. The photoluminescence maximum peak of polymer was located at 424 nm, which corresponds to the photon energy of 2.93 eV. The cyclovoltammograms of poly(phenylacetylene) exhibited the electrochemically stable window at the -1.5 ~ +1.5 V region. The kinetics of the redox process of poly(phenylacetylene) was found to be mainly controlled by the reactant diffusion process based on the experiment of the oxidation current density of polymer versus the scan rate.
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Yeong-Soon Gal,Sung-Ho Jin,Sang Hee Jang,Kwon Taek Lim 한국화상학회 2011 한국화상학회지 Vol.17 No.3
WCl6-EtAlCl2 촉매계를 이용하여 비교적 큰 분자량을 갖는 폴리(페닐아세틸렌)을 합성하였다. 중합반응이 잘 진행되었으며 중합수율은 81%였다. 합성한 폴리(페닐아세틸렌) 분자구조를 NMR(1H-,13C-), IR, UV-visible, 원소분석 등으로 분석한 결과 페닐 치환기를 갖는 공액구조 고분자가 합성되었음을 확인할 수 있었다. 아울러 332 nm의 빛으로 여기시킬 경우 PL 최대 peak는 424 nm에서 관찰되었는데, 이는 2.93 eV의 광 에너지에 해당한다. 이 고분자의 순환 전압전류 그림은 도핑과 탈도핑사이에서 비가역적인 전기화학적 거동을 보여주었다. 이 고분자의 전기화학적 과정이 매우 안정하였으며, 스캔속도에 따른 산화전류 밀도 실험으로부터 이 고분자의 산화-환언 과정은 확산-제어과정에 따르는 것으로 분석되었다.
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WCI6-EtAICI2 촉매에 의한 폴리(페닐아세틸렌)의 합성과 전자-광 및 전기화학적 특성연구
제갈영순 ( Yeong Soon Jae Gal ),진성호 ( Sung Ho Jin ),장상희 ( Sang Hee Jang ),임권택 ( Kwon Taek Lim ) 한국화상학회 2011 한국화상학회지 Vol.17 No.3
WCl6-EtAlCl2촉매계를 이용하여 비교적 큰 분자량을 갖는 폴리(페닐아세틸렌)을 합성하였다. 중합반응이 잘 진행되었으며 중합수율은 81%였다. 합성한 폴리(페닐아세틸렌) 분자구조를 NMR (1H-,13C-),IR,UV-visible,원소분석 등으로 분석한 결과 페닐 치환기를 갖는 공액구조 고분자가 합성되었음을 확인할 수 있었다. 아울러 332 nm의 빛으로 여기시킬 경우 PL 최대 peak는 424 nm에서 관찰되었는데, 이는 2.93 eV의 광 에너지에 해당한다. 이 고분자의 순환 전압전류 그림은 도핑과 탈도핑사이에서 비가역적인 전기화학적 거동을 보여주었다. 이 고분자의 전기화학적 과정이 매우 안정하였으며, 스캔속도에 따른 산화전류밀도 실험으로부터 이 고분자의 산화-환원 과정은 확산-제어과정에 따르는 것으로 분석되었다. Poly(phenylacetylene) with relatively high molecular weight was prepared by using WCl6-EtAlCl2catalystsystem.This polymerization proceeded well in the mild reaction condition to give a high yield of polymer (polymer yield: 81 %). The chemical structure of poly(phenylacetylene) was characterized by such instrumental methods as NMR (1H-,13C-),IR,UV-visiblespectroscopies,andelementalanalysistohavetheconjugatedpolymerbackbonebearingphenylsubstituents. The photoluminescence maximum peak of polymer was located at 424 nm, which corresponds to the photon energy of 2.93 eV. The cyclovoltammograms of poly(phenylacetylene) exhibited the electrochemically stable window at the -1.5 ~ +1.5 V region. The kinetics of the redox process of poly(phenylacetylene) was found to be mainly controlled by the reactant diffusion process based on the experiment of the oxidation current density of polymer versus the scan rate.
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