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펨토초 레이저를 이용한 박막 재료 및 기판 변화에 따른 가공 특성에 관한 연구
김병희(B. H. Kim),신홍규(H. G. Shin),이종길(J . G. Lee),정세채(S. C. Jeong) 한국정밀공학회 2006 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 Vol.2006 No.5월
We have investigated the behavior of the ultra fast laser ablation of chromium films (200㎚) on the silicon and pyrex glass(corning 7740) substrate with respect to the laser fluence and the number of laser pulses. In addition, several experiments about ITO thin film were carried out with femto- second Ti:Sapphire laser (150fs). Fin ally, we introduce the ablation characteristic in accordance with materials of thin film and substrate.