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PEM을 이용한 ITO / PET film의 조성 제어
한세진(S. J. Han),김용한(Y. H. Kim),김영환(Y. H. Kim),이택동(T. D. Lee) 한국진공학회(ASCT) 1999 Applied Science and Convergence Technology Vol.8 No.4(1)
진공 중 가스의 방출이 크고[1] 천이온도(T_g: glass transition)가 낮아 기판으로 사용에 제약이 있는 플라스틱 필름에 ITO 박막을 연속적으로 코팅하기 위하여 PEM을 이용한 공정제어 효과 및 박막의 특성을 조사하였다. 롤 형태로 감긴 PET(두께 75 ㎛, 폭 190 ㎜) 필름을 0.2 m/min 속도로 이송시키며 글로우 방전 층에 노출시켜 탈가스와 표면의 균질화 및 미세화 처리하고, 이어서 산소/알곤 펄스 직류 플라즈마 분위기에서 합금 타켓(In_(90)-Sn_(10))을 사용하여 ITO를 제조하였다. PEM으로 타켓 표면의 방전 스펙트럼 강도를 금속모드 대비 39%로 유지되도록 산소 분압비를 조정한 결과, 원자비로 Sn/In=0.12, O/In=1.34인 ITO 박막이 P_(O2)/P_(Ar)=0.23 조건에서 얻어졌으며, 이때 평균 면적 저항은 37Ω/□, 가시광선 투과도는 86%로 측정되었다. The characterization of the reactively sputtered ITO layer on the PET film has been studied. The PEM device has been used to determine the optimum stoichiometry through control of the amount of oxygen incorporated into the alloy target, and the optimum operation conditions to produce films with the highest electrical conductivity and visible transparency. The PET film was pre-treated under the plasma discharge condition to remove the adsorbed gases and to modify the surface morphology. The results revealed that by adjusting the flow rate of oxygen with the spectral intensity of indium target, the composition of plasma gas can be kept constant during the entire deposition period. The resistivity of ITO film obtained was found to be about 37Ω/□, and the transmittance of visual range was about 86%.