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김민환(M. H. Kim),이재선(J. S. Lee),박진석(J. S. Park),김종인(J. I. Kim),김긍구(K. K. Kim) 한국전산유체공학회 2003 한국전산유체공학회지 Vol.8 No.3
CFD analyses of the three-dimensional turbulent flow in the impeller and diffuser of an axial flow pump including suction and discharge parts are presented and compared with experimental data. The purpose of the current study is to validate the CFD method for the performance analysis of the main coolant pump for SMART and to investigate the effect of suction and discharge shapes on the pump performance. To generate a performance curve, not only the design point but also the off-design points were computed. The results were compared with available experimental data in terms of head generated. At the design point, the analysis accurately predicts the experimental head value. In the range of the higher flow rates, the results are also in very good agreement with the experimental data, in magnitude but also in terms of slope of variation. For lower flow rates, the results shows that the analysis considering the suction and discharge well describe the typical S-shape performance curve of the axial pump.
미세균열 감지를 위한 비선형 유도초음파 혼합기법의 타당성 연구
박준필(J. P. Park),최영일(Y. Choi),백승호(S. H. Baek),박상후(S. H. Park),이재선(J. S. Lee) Korean Society for Precision Engineering 2021 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 Vol.2021 No.11월
초음파 비파괴검사는 물체를 파괴하지 않고 검사할 수 있는 효과적인 방법이다. 초음파 비파괴 기법 중 초음파 비선형 평가는 부식 또는 소성 변형과 같은 미세 손상을 감지하기 위해 사용된다. 미세 손상 평가 측면에서 주파수 영역의 진폭 비교에서 얻은 데이터는 중요한 역할을 한다. 주파수 영역에서 발생하는 매개 변수는 초음파 비선형 기법 또는 비선형성이라고 불린다. 비선형성의 특정 부분은 장비 시스템에서 발생하고, 다른 부분은 재료에서 발생된다. 전자는 시스템 비선형성이고 후자는 재료의 비선형성이다. 시스템의 비선형성은 출처가 재료에서 나온 것이 아니기 때문에 해석을 방해하는 요소이다. 본 연구에서는 시스템 효과를 최소화하기 위해 혼합 기법을 구현하였다. 광범위한 영역을 검사할 수 있는 유도초음파(Guided Wave)의 특징을 이용하기 위해 본 논문의 주요 연구 주제는 유도초음파 혼합 기술에 초점이 맞춰져 있다. 또한, 여러 체적파(Bulk Wave) 혼합 이론 방정식은 유도초음파파 혼합 이론 연구에 좋은 개념이 되며, 본 연구에서는 기존의 비선형 기법과 유도초음파 혼합 실험 결과를 비교하여 신뢰성을 확인한다. 이 기술은 장비 시스템의 비선형성을 최소화하여 미세 손상을 정량적으로 구별하는 데 중요한 역할을 할 수 있다.
적층된 Inconel 625 의 기계적 표면강화처리에 따른 수소취화 특성 분석
백승호(S. H. Baek),허산산(S. S. He),박준필(J. P. Park),장문석(M. S. Jang),백동현(D. H. Back),이동훈(D. H. Lee),이재선(J. S. Lee),박상후(S. H. Park) Korean Society for Precision Engineering 2021 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 Vol.2021 No.11월
지구온난화, 이상기후 등 환경오염의 부정적인 영향으로 인하여 화석에너지를 대체하기 위한 수소 에너지에 대한 관심이 높아지고 있으며, 자동차, 저장용기 등 산업 각계에서 수소를 사용하기 위한 기초기술개발이 요구되고 있다. 그러나 금속이 수소에 노출될 경우 수소 취성을 정도의 차이만 있을 뿐 필연적이며, 수소취성으로 인하여 금속 재료의 연성이 감소하기 때문에 현재 수소환경에서 금속 재료의 사용은 제한이 많은 상태이다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 본 연구에서는 적층 제조와 기계적 표면 강화를 이용한 표면처리 방법인 UNSM (Ultrasonic Nanocrystal Surface Modification)을 이용하여 수소취화를 억제하고자 하였다. UNSM 이란, 초음파로 진동하는 혼을 이용하여 소재의 표면을 타격하여 표면을 강화하는 공정으로, 표면조도 개선, 결정구조 미세화, 표면 경도 증가 등의 효과가 있다. 특히, 결정구조 미세화는 수소분자의 침투를 억제하여 수소취화를 방지할 수 있다. 구체적으로 본 연구에서는 기계가공 및 적층제조된 Inconel 625 소재에 UNSM 표면처리를 한 후 한국 가스안전공사의 가스 수소 장입장치를 이용하여 수소압 70 MPa 환경에서 2 주간 수소를 장입하였을 때의 수소취성 특성을 SSRT (Slow Strain Rate Test) 실험, 마이크로 경도, SEM, 파단면 문석등을 이용하여 비교하였다. 결과적으로 UNSM 표면처리를 수행할 경우 기계 가공한 시편의 경우 강도가 2, 연성이 8% 증가하였으며, 적층제조된 시편에 대해서는 강도가 1%, 연성이 3% 증가하는 등 UNSM 표면처리가 수소취화 억제에 효과가 있음을 확인하였다. 향후 수소취화량에 따른 UNSM 처리의 효과 및 수소취화 상태에서의 다양한 물성들을 확인하고 이를 기계부품 설계에 적용할 예정이다.
TFT LCD 제조용 대면적 Magnetron Sputtering 장치 설계와 Al 성장막 특성 조사
유운종(W. J. Yoo),현광수(K. S. Hyun),이재선(J. S. Lee),최원성(W. S. Choi),민병희(B. H. Min),연충규(C. K. Yon),표재확(J. H. Pyo),황기웅(K. W. Whang) 한국진공학회(ASCT) 1993 Applied Science and Convergence Technology Vol.2 No.4
TFT LCD(thin film transistor liquid crystal display) 금속화 박막제조를 위한 sputtering 장치 구성시에 대면적 기판에 박막의 균일도와 온도균일도, 진공용기내부에서의 sputtering 기체의 압력구배, 최저도달진공도, 기판 운송계의 이송의 안정성을 고려한다. 기판크기를 400×400 ㎜로 하여 sputtering source가 장착된 증착챔버, 기판을 증착전 RF 세척을 하고 온도를 200℃ 이상 상승을 위한 히탱챔버, 기판을 운송하는 운송계, (un)load lock 챔버로 구성하였다. 히터를 설계ㆍ제조하여 유리기판 위에서 온도균일도를 측정한 결과 250℃±5% 이내였고, 증착챔버의 최저도달진공도는 cryo 펌프로 24 시간 배기 후 1.8×10^(-7)torr였다. Sputtering source에 알루미늄 target를 장착시켜 알루미늄박막의 균일도, reflectivity, sheet resistance를 각각 측정하였다. Factors considered building the magnetron sputtering system for TFT LCD (thin film transistor liquid crystal display) metallization were thin film thickness uniformity, temperature uniformity and the pressure gradient of sputtering gas flow in vacuum chamber, base pressure, and the stability of the carrier moving. The system was consisted of a deposition chamber, a pre-heating chamber, a RF-precleaning chamber and a load/unload lock chamber. The system was designed to handle a substrate with dimension of 400 ×400 ㎜. The temperature uniformity of a heater table developed showed 250℃±5% accuracy on the substrate glass. A base pressure of 1.8×10^(-7)torr was obtained after 24 hours pumping with a cryo pump. After an aluminum target was installed in a sputtering source and the film was deposited on the glass, the uniformity, reflectivity and sheet resistance of the deposited film were measured.